光学活性硝基化合物和氰基化合物的制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200410068730.1

申请日：

2004-09-06

公开(公告)号：

CN1626501A

公开(公告)日：

2005-06-15

发明(设计)人：

渡边正人村田邦彦碇屋隆雄

申请人：

申请人地址：

日本东京

IPC主分类号：

C07C20553

IPC分类号：

C07C20112 C07C25532 C07C25330

代理机构：

永新专利商标代理有限公司

代理人：

陈建全

法律状态：

专利权的终止

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2016-10-26	专利权的终止	未缴年费专利权终止号牌文件类型代码:1605 号牌文件序号:101684508696 IPC(主分类):C07C 205/53 专利号:ZL2004100687301 申请日:20040906 授权公告日:20071212 终止日期:20150906
2007-12-12	授权	授权
2005-06-15	公开	公开
2006-09-27	实质审查的生效	实质审查的生效

共 50 条

[1]

钌化合物和光学活性氨基醇化合物的制造方法 [P].

明石真也 ;

井上勉 .

中国专利 :CN101983186B ,2011-03-02

[2]

光学活性的化合物的制造方法 [P].

利奥波德·恩帕卡·鲁特特 ;

萩谷弘寿 .

日本专利 :CN115836041B ,2024-09-17

[3]

光学活性化合物的制造方法 [P].

河原滋 ;

纲野裕右 ;

杉山雅一 .

中国专利 :CN101239941A ,2008-08-13

[4]

光学活性化合物的制造方法 [P].

松井浩三 ;

池本哲哉 .

中国专利 :CN102471266A ,2012-05-23

[5]

硝基化合物的制造方法 [P].

吉本祐也 ;

鸟海达也 ;

长岛优太 .

中国专利 :CN105849082A ,2016-08-10

[6]

硝基化合物的制造方法 [P].

高桥晃树 ;

植木和也 ;

长岛优太 .

中国专利 :CN106164041B ,2016-11-23

[7]

二氰基化合物的制造方法 [P].

木村惠辅 ;

大森洁 ;

中河贤和 ;

西村浩辅 .

中国专利 :CN106397268A ,2017-02-15

[8]

硝基化合物的制造方法 [P].

高桥晃树 ;

植木和也 ;

长岛优太 .

中国专利 :CN106232572B ,2016-12-14

[9]

光学活性化合物 [P].

Z·M·啻尔考维 ;

R·布彻尔克 ;

K·斯啻密特 .

中国专利 :CN1305447A ,2001-07-25

[10]

光学活性的化合物的制造方法 [P].

高桥友章 ;

宇治田悟 .

中国专利 :CN106103413A ,2016-11-09

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