用于制造光吸收聚合物基质的方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201880074562.7

申请日：

2018-12-19

公开(公告)号：

CN111356734A

公开(公告)日：

2020-06-30

发明(设计)人：

J·比托 R·贝松 P·弗罗芒坦

申请人：

申请人地址：

法国沙朗通勒蓬

IPC主分类号：

C08K910

IPC分类号：

G02B104

代理机构：

北京市中咨律师事务所 11247

代理人：

张振军;刘娜

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-06-30	公开	公开
2020-07-24	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C08K 9/10 申请日:20181219

共 50 条

[1]

聚合物基质、其用途和制造该聚合物基质的方法 [P].

马蒂亚斯.奥尔兰德 ;

比利.泽德瓦尔 .

中国专利 :CN105288742A ,2016-02-03

[2]

聚合物基质、其用途和制造该聚合物基质的方法 [P].

马蒂亚斯·奥尔兰德 ;

比利·泽德瓦尔 .

中国专利 :CN101460201A ,2009-06-17

[3]

用于光学聚合物的光吸收化合物 [P].

A·K·阿瓦斯蒂 ;

D·P·范德比尔特 ;

R·孟 .

中国专利 :CN104508080B ,2015-04-08

[4]

新型聚合物基质电极 [P].

A·波塞亚 ;

M·瓦伦蒂尼 .

:CN114364977B ,2025-08-08

[5]

新型聚合物基质电极 [P].

A·波塞亚 ;

M·瓦伦蒂尼 .

中国专利 :CN114364977A ,2022-04-15

[6]

热塑性聚合物基质的生产方法 [P].

D·海德奇迪派塔 ;

K·克里弗特佐夫拉古恩斯 ;

L·R·贝多尔都斯桑图斯 ;

T·科蒂洛巴斯托 ;

T·卡诺瓦 .

中国专利 :CN102131850A ,2011-07-20

[7]

可生物再吸收聚合物基质及其制造和使用方法 [P].

G·P·罗耶 .

中国专利 :CN101247789B ,2008-08-20

[8]

制造在聚合物的基质中引入有纳米结构的聚合物的方法 [P].

陆松伟 ;

T·G·鲁卡维纳 ;

M·阿巴卜 .

中国专利 :CN101010363B ,2007-08-01

[9]

具有聚合物基质的插件框架及其制造方法 [P].

卓尔·赫尔维茨 ;

黄士辅 .

中国专利 :CN104270885A ,2015-01-07

[10]

用于制造聚合物基质电池的电化学单元的方法 [P].

让-路易·费兰迪斯 ;

罗杰·佩伦茨 .

法国专利 :CN120153485A ,2025-06-13

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