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氟硫酸锆二阶非线性光学晶体材料及其制备方法与应用
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202111107881.3
申请日：
2021-09-22
公开(公告)号：
CN113897679A
公开(公告)日：
2022-01-07
发明(设计)人：
张弛
姜春波
吴超
申请人：
申请人地址：
200092 上海市杨浦区四平路1239号
IPC主分类号：
C30B2946
IPC分类号：
C30B710
G02F1355
H01S3109
H01S506
代理机构：
上海科盛知识产权代理有限公司 31225
代理人：
许耀
法律状态：
公开
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2022-01-07 | 公开 | 公开 |
| 2022-01-25 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效 IPC(主分类):C30B 29/46 申请日:20210922 |