单晶纳米线阵列的合成方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201010536975.8
申请日
2010-11-09
公开(公告)号
CN101985774A
公开(公告)日
2011-03-16
发明(设计)人
吴凯 宫勇吉 余捷峰 黄斌 尚鉴
申请人
申请人地址
100871 北京市海淀区颐和园路5号
IPC主分类号
C30B2504
IPC分类号
C30B2962
代理机构
北京万象新悦知识产权代理事务所(普通合伙) 11360
代理人
贾晓玲
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 50 条
[1]
单晶银纳米线的合成方法 [P]. 
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纳米线阵列的雕刻方法及纳米线阵列 [P]. 
程春 ;
石润 ;
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陈鹏程 ;
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陈宏 ;
张亮 .
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[3]
氢氧化镉单晶纳米线的合成方法 [P]. 
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禚林海 ;
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[5]
高长径比硫化镍单晶纳米线阵列的制备方法 [P]. 
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徐亚利 ;
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魏成振 .
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[6]
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[7]
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许金友 ;
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王兴宇 ;
廖记辉 ;
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宋健 ;
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[8]
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唐颐 ;
高庆生 ;
张亚红 .
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[9]
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洪培真 ;
徐秋霞 ;
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李俊峰 ;
赵超 .
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[10]
厘米级长度的银单晶纳米线阵列的制备方法 [P]. 
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