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一种直写光刻机的曝光系统
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN201910743951.0
申请日：
2019-08-13
公开(公告)号：
CN112394619A
公开(公告)日：
2021-02-23
发明(设计)人：
张柯
李伟成
张雷
申请人：
申请人地址：
215026 江苏省苏州市工业园区汀兰巷192号C5幢102室
IPC主分类号：
G03F720
IPC分类号：
代理机构：
代理人：
法律状态：
实质审查的生效
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2021-03-12 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20190813 |
| 2021-02-23 | 公开 | 公开 |