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折射率成像用贮存稳定的光聚合材料
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN89100196.4
申请日
:
1989-01-14
公开(公告)号
:
CN1035004A
公开(公告)日
:
1989-08-23
发明(设计)人
:
威廉·卡尔·斯马瑟斯
申请人
:
申请人地址
:
美国特拉华州
IPC主分类号
:
G03C168
IPC分类号
:
代理机构
:
中国专利代理有限公司
代理人
:
王惠;黄家伟
法律状态
:
专利申请的视为撤回
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
1993-12-29
专利申请的视为撤回
专利申请的视为撤回
1989-08-22
公开
公开
共 50 条
[1]
用于折射率影像的光聚合材料和元件
[P].
布鲁斯·马尔科姆·门罗
论文数:
0
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布鲁斯·马尔科姆·门罗
;
威廉·卡尔·斯马瑟斯
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威廉·卡尔·斯马瑟斯
.
中国专利
:CN1035364A
,1989-09-06
[2]
光学折射率调制聚合物、光学折射率调制聚合物组合物和折射率调节方法
[P].
川口佳秀
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川口佳秀
;
诸石裕
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诸石裕
;
井上彻雄
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井上彻雄
;
宗和范
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宗和范
.
中国专利
:CN100424102C
,2006-11-15
[3]
高折射率材料
[P].
拉吉夫·斯里瓦斯塔瓦
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拉吉夫·斯里瓦斯塔瓦
;
道格拉斯·迈克尔·杜克斯
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道格拉斯·迈克尔·杜克斯
;
林海辉
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林海辉
.
中国专利
:CN104583278A
,2015-04-29
[4]
调整光学折射率的聚合物组合物、全息图记录材料以及控制折射率的方法
[P].
川口佳秀
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川口佳秀
;
诸石裕
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诸石裕
;
井上彻雄
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井上彻雄
.
中国专利
:CN1942508A
,2007-04-04
[5]
可调折射率聚合物
[P].
C·穆尔泽
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C·穆尔泽
;
A·L·帕特森
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A·L·帕特森
;
C·R·坎齐
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C·R·坎齐
;
B·利奇菲尔德
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B·利奇菲尔德
;
C·D·吉尔莫
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C·D·吉尔莫
;
B·L·塞克马恩
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B·L·塞克马恩
.
中国专利
:CN112898882A
,2021-06-04
[6]
高折射率的聚合物材料的制备方法
[P].
李科
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机构:
李科
李科
李科
.
中国专利
:CN120137179A
,2025-06-13
[7]
高折射率材料
[P].
竹内义行
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竹内义行
.
中国专利
:CN101484503A
,2009-07-15
[8]
高折射率材料
[P].
A·帕特森
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A·帕特森
;
王德岩
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王德岩
;
B·L·塞克马恩
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B·L·塞克马恩
;
C·D·吉尔莫
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C·D·吉尔莫
;
尹喜在
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尹喜在
;
A·D·查韦斯
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A·D·查韦斯
;
C·穆尔泽
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C·穆尔泽
;
M·H·小霍华德
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M·H·小霍华德
;
J·S·梅
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J·S·梅
;
郑周永
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郑周永
;
李垠泳
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李垠泳
.
中国专利
:CN114316137A
,2022-04-12
[9]
高折射率材料
[P].
A·帕特森
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机构:
罗门哈斯电子材料有限责任公司
罗门哈斯电子材料有限责任公司
A·帕特森
;
R·斯奈德
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机构:
罗门哈斯电子材料有限责任公司
罗门哈斯电子材料有限责任公司
R·斯奈德
;
G·霍斯泰特勒
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机构:
罗门哈斯电子材料有限责任公司
罗门哈斯电子材料有限责任公司
G·霍斯泰特勒
;
C·坎齐
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机构:
罗门哈斯电子材料有限责任公司
罗门哈斯电子材料有限责任公司
C·坎齐
;
B·塞克马恩
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罗门哈斯电子材料有限责任公司
罗门哈斯电子材料有限责任公司
B·塞克马恩
;
王德岩
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机构:
罗门哈斯电子材料有限责任公司
罗门哈斯电子材料有限责任公司
王德岩
;
尹喜在
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机构:
罗门哈斯电子材料有限责任公司
罗门哈斯电子材料有限责任公司
尹喜在
;
李秀敏
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机构:
罗门哈斯电子材料有限责任公司
罗门哈斯电子材料有限责任公司
李秀敏
;
李禧林
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机构:
罗门哈斯电子材料有限责任公司
罗门哈斯电子材料有限责任公司
李禧林
.
美国专利
:CN117866195A
,2024-04-12
[10]
低折射率材料的保护涂层
[P].
迈克尔·L·斯坦纳
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迈克尔·L·斯坦纳
;
威廉·D·科焦
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威廉·D·科焦
;
托马斯·J·卢德曼
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托马斯·J·卢德曼
;
埃米莉·L·雷克谢森
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埃米莉·L·雷克谢森
;
威廉·R·达德利
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威廉·R·达德利
;
史蒂文·J·麦克曼
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史蒂文·J·麦克曼
;
迈克尔·L·鲁格瑟格尔
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迈克尔·L·鲁格瑟格尔
.
中国专利
:CN104507589B
,2015-04-08
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