清洗厚膜光刻胶的清洗剂

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200610147346.X

申请日：

2006-12-15

公开(公告)号：

CN101201557A

公开(公告)日：

2008-06-18

发明(设计)人：

彭洪修史永涛刘兵曾浩

申请人：

申请人地址：

201203上海市浦东新区张江高科技园区龙东大道3000号5号楼613－618室

IPC主分类号：

G03F742

IPC分类号：

G03F732 G03F726

代理机构：

上海虹桥正瀚律师事务所

代理人：

李佳铭

法律状态：

发明专利申请公布后的视为撤回

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2010-10-20	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回号牌文件类型代码:1603 号牌文件序号:101009991511 IPC(主分类):G03F 7/42 专利申请号:200610147346X 公开日:20080618
2008-06-18	公开	公开

共 50 条

[1]

厚膜光刻胶清洗剂 [P].

史永涛 ;

彭洪修 ;

刘兵 ;

曾浩 .

中国专利 :CN101286017A ,2008-10-15

[2]

清洗厚膜光刻胶的清洗剂 [P].

彭洪修 ;

史永涛 ;

刘兵 .

中国专利 :CN101548242B ,2009-09-30

[3]

厚膜光刻胶清洗剂 [P].

史永涛 ;

彭洪修 ;

刘兵 .

中国专利 :CN101652718A ,2010-02-17

[4]

一种厚膜光刻胶清洗剂 [P].

史永涛 ;

彭洪修 ;

曹惠英 ;

刘兵 .

中国专利 :CN101487993A ,2009-07-22

[5]

一种厚膜光刻胶清洗剂 [P].

刘兵 ;

彭洪修 ;

孙广胜 .

中国专利 :CN102540774A ,2012-07-04

[6]

一种厚膜光刻胶的清洗剂 [P].

史永涛 ;

彭洪修 ;

刘兵 ;

曹惠英 ;

曾浩 .

中国专利 :CN101373339A ,2009-02-25

[7]

一种光刻胶清洗剂 [P].

刘兵 ;

彭洪修 ;

史永涛 ;

曾浩 .

中国专利 :CN101364056A ,2009-02-11

[8]

一种光刻胶清洗剂 [P].

史永涛 ;

彭洪修 ;

曹惠英 .

中国专利 :CN101398638A ,2009-04-01

[9]

一种光刻胶清洗剂 [P].

史永涛 ;

彭洪修 ;

曹慧英 ;

刘兵 ;

曾浩 .

中国专利 :CN101339368A ,2009-01-07

[10]

低蚀刻性光刻胶清洗剂 [P].

史永涛 ;

彭洪修 ;

刘兵 ;

曾浩 .

中国专利 :CN101286016A ,2008-10-15

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