用于基材的磁流变抛光的系统

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201080010348.9

申请日：

2010-03-02

公开(公告)号：

CN102341216A

公开(公告)日：

2012-02-01

发明(设计)人：

W.考登斯基

申请人：

申请人地址：

美国伊利诺伊州

IPC主分类号：

B24B5702

IPC分类号：

B24B3100 B24B3700

代理机构：

北京市柳沈律师事务所 11105

代理人：

曲莹

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2013-12-18	授权	授权
2012-03-28	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101211312209 IPC(主分类):B24B 57/02 专利申请号:2010800103489 申请日:20100302
2012-02-01	公开	公开

共 50 条

[1]

用于基材磁流变抛光的系统 [P].

W.考登斯基 ;

S.格劳德金 ;

A.赛克里斯 .

中国专利 :CN103269828B ,2013-08-28

[2]

棱镜磁流变抛光设备 [P].

徐世波 .

中国专利 :CN212265335U ,2021-01-01

[3]

磁流变抛光装置 [P].

卫洁 ;

朱绪力 ;

董山东 ;

李士煦 ;

李量 ;

孙慧敏 ;

刘南南 ;

牟杰锋 ;

张自信 ;

都胜元 ;

司念东 .

中国专利 :CN207616256U ,2018-07-17

[4]

用于超光滑抛光的磁流变流体 [P].

W.科顿斯基 ;

S.戈罗德金 ;

E.奥斯瓦尔德 .

中国专利 :CN104487204A ,2015-04-01

[5]

一种磁流变抛光组件及磁流变抛光装置 [P].

张君 ;

王伟 ;

张金珊 ;

屈翔 ;

陈松 ;

贾秋红 .

中国专利 :CN114986375A ,2022-09-02

[6]

磁流变抛光设备的磁场发生装置 [P].

许亮 ;

陈永福 ;

许君 ;

李智 ;

危峰 .

中国专利 :CN105014484A ,2015-11-04

[7]

磁流变抛光设备的磁场发生装置 [P].

许亮 ;

陈永福 ;

许君 ;

李智 ;

危峰 .

中国专利 :CN204935273U ,2016-01-06

[8]

一种基于扩展式磁流变抛光的励磁装置 [P].

石峰 ;

张万里 ;

戴一帆 ;

胡皓 ;

宋辞 ;

钟曜宇 .

中国专利 :CN109500662B ,2019-03-22

[9]

一种基于磁流变抛光的永磁型磁流变液减速装置及其应用 [P].

石峰 ;

张万里 ;

宋辞 ;

铁贵鹏 ;

田野 ;

王博 ;

乔冬阳 .

中国专利 :CN117605741A ,2024-02-27

[10]

一种用于磁流变抛光的加工装置 [P].

潘继生 ;

阎秋生 ;

蔡志航 ;

洪志清 ;

陈海阳 ;

梁智镔 .

中国专利 :CN216151877U ,2022-04-01

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