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光刀投影光学系统
被引：0
专利类型：
实用新型
申请号：
CN202021652334.4
申请日：
2020-08-10
公开(公告)号：
CN213957822U
公开(公告)日：
2021-08-13
发明(设计)人：
陈方
申请人：
申请人地址：
400000 重庆市江北区文星门街30号观澜苑Ｂ区6栋601
IPC主分类号：
G03B2120
IPC分类号：
代理机构：
重庆强大凯创专利代理事务所(普通合伙) 50217
代理人：
廖龙春
法律状态：
授权
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2021-08-13 | 授权 | 授权 |