光刻设备以及器件制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201080051846.8

申请日：

2010-09-08

公开(公告)号：

CN102612667B

公开(公告)日：

2012-07-25

发明(设计)人：

J·范斯库特克恩·万英根谢诺 G·德维里斯

申请人：

申请人地址：

荷兰维德霍温

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

G02B509

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司 11021

代理人：

吴敬莲

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2015-06-17	授权	授权
2012-12-26	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101370319472 IPC(主分类):G03F 7/20 专利申请号:2010800518468 申请日:20100908
2012-07-25	公开	公开

共 50 条

[1]

光刻设备以及器件制造方法 [P].

K·范隐真申诺 ;

J·范斯库特 ;

G·德维里斯 .

中国专利 :CN102695988B ,2012-09-26

[2]

光刻设备以及器件制造方法 [P].

H·巴特勒 ;

M·W·M·范德维基斯特 ;

C·A·L·德霍恩 .

中国专利 :CN101441420B ,2009-05-27

[3]

光刻设备、器件制造方法、以及由此制造的器件 [P].

J·H·J·穆尔斯 ;

J·C·L·弗兰肯 ;

U·米坎 ;

H·－J·沃尔马 .

中国专利 :CN1648777A ,2005-08-03

[4]

检验设备、光刻设备以及器件制造方法 [P].

S·Y·斯米诺夫 ;

L·赖齐科夫 ;

E·B·凯提 ;

安戴尔·琼比尤尔 ;

D·赫德 ;

Y·K·什马利威 ;

R·D·雅各布斯 .

中国专利 :CN103034069A ,2013-04-10

[5]

光刻设备、用于维护光刻设备的方法以及器件制造方法 [P].

A·布里克尔 ;

M·胡克斯 ;

T·凯蒂 .

中国专利 :CN103492952A ,2014-01-01

[6]

用于控制光刻设备的方法、光刻设备以及器件制造方法 [P].

R·M·G·J·昆斯 ;

A·J·唐科布洛克 ;

P·安德里西奥拉 ;

E·F·范韦斯特 .

中国专利 :CN108027572A ,2018-05-11

[7]

遮蔽构件、光刻设备以及器件制造方法 [P].

兼子毅之 ;

E·H·E·C·尤梅伦 ;

N·V·德兹欧姆提那 ;

M·克鲁兹恩卡 .

中国专利 :CN102023490A ,2011-04-20

[8]

光刻设备、器件制造方法 [P].

H·巴特勒 ;

A·布里克 ;

P·亨纳斯 ;

M·胡克斯 ;

S·A·J·霍尔 ;

H·范德斯库特 ;

B·斯拉格海克 ;

P·蒂纳曼斯 ;

M·范德威吉斯特 ;

K·扎尔 ;

T·P·M·卡迪 ;

R·比尔恩斯 ;

O·菲思克尔 ;

W·安吉内恩特 ;

N·J·M·博施 .

中国专利 :CN104040433A ,2014-09-10

[9]

器件制造方法、光刻设备 [P].

A·奥德斯霍恩 ;

R·布洛克 ;

E·R·洛普斯卓 ;

L·M·莱瓦西尔 .

中国专利 :CN101641645B ,2010-02-03

[10]

光刻设备、器件制造方法以及用于光刻设备的投影元件 [P].

A·J·布里克 ;

D·J·P·A·弗兰肯 ;

M·L·内森 ;

S·劳西 .

中国专利 :CN100526989C ,2006-06-07

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