一种LTCC基板表面平整度控制工艺方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201210210163.3
申请日
2012-06-25
公开(公告)号
CN102724822B
公开(公告)日
2012-10-10
发明(设计)人
方哲 张芹 周卫
申请人
申请人地址
100854 北京市海淀区北京142信箱203分箱45号
IPC主分类号
H05K346
IPC分类号
代理机构
中国航天科工集团公司专利中心 11024
代理人
岳洁菱;姜中英
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 50 条
[1]
一种LTCC基板表面平整度控制工艺方法 [P]. 
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[2]
一种LTCC基板表面平整度控制工艺方法 [P]. 
张一昉 ;
沈剑 ;
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[3]
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[4]
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[10]
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