离子膜电解槽

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201120356412.0

申请日：

2011-09-21

公开(公告)号：

CN202246899U

公开(公告)日：

2012-05-30

发明(设计)人：

明果英周军赵建成张勇

申请人：

申请人地址：

410100 湖南省长沙市长沙经济技术开发区盼盼路11号

IPC主分类号：

C25C112

IPC分类号：

C25C704

代理机构：

北京康信知识产权代理有限责任公司 11240

代理人：

吴贵明

法律状态：

专利权的终止

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2018-09-07	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C25C 1/12 申请日:20110921 授权公告日:20120530 终止日期:20170921
2012-05-30	授权	授权

共 50 条

[1]

离子膜电解槽 [P].

黄东 ;

包金祥 .

中国专利 :CN203007442U ,2013-06-19

[2]

阴离子膜电解槽 [P].

慎义勇 ;

郑智慧 ;

支男刚 ;

覃征远 .

中国专利 :CN2459329Y ,2001-11-14

[3]

离子膜电解槽 [P].

黄东 ;

包金祥 .

中国专利 :CN203065587U ,2013-07-17

[4]

离子膜电解槽 [P].

代良云 ;

戴青 ;

周兴斌 ;

王华 .

中国专利 :CN217052425U ,2022-07-26

[5]

膜极距离子膜电解槽 [P].

刘秀明 ;

康建忠 ;

张俊锋 ;

潘维照 ;

郭立德 ;

张丽蕊 ;

宗子超 .

中国专利 :CN205893403U ,2017-01-18

[6]

离子膜电解槽教学模具 [P].

贾立军 ;

王艳国 ;

王少杰 ;

王艳伟 .

中国专利 :CN202549142U ,2012-11-21

[7]

冶金离子膜电解槽 [P].

潘洪明 ;

唐正飞 .

中国专利 :CN216891256U ,2022-07-05

[8]

离子膜电解槽 [P].

郭立德 ;

刘秀明 ;

陈中元 ;

王伟红 ;

乔宵峰 ;

刘继东 .

中国专利 :CN103469245B ,2013-12-25

[9]

离子膜电解槽 [P].

郭立德 ;

张良虎 ;

康建忠 ;

王伟红 ;

陈茂庭 ;

王浩 ;

郭利平 ;

宋明周 .

中国专利 :CN103060833B ,2013-04-24

[10]

离子膜电解槽 [P].

郭立德 ;

张良虎 ;

康建忠 ;

王伟红 ;

陈茂庭 ;

王浩 ;

郭利平 ;

宋明周 .

中国专利 :CN203128672U ,2013-08-14

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