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用于形成高分子化合物的化合物
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201510736720.9
申请日
:
2010-10-29
公开(公告)号
:
CN105198909A
公开(公告)日
:
2015-12-30
发明(设计)人
:
吉村研
大家健一郎
申请人
:
申请人地址
:
日本国东京都
IPC主分类号
:
C07D51900
IPC分类号
:
代理机构
:
中科专利商标代理有限责任公司 11021
代理人
:
葛凡
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2016-01-27
实质审查的生效
实质审查的生效 号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101643929971 IPC(主分类):C07D 519/00 专利申请号:2015107367209 申请日:20101029
2015-12-30
公开
公开
2017-09-08
授权
授权
共 50 条
[1]
用于形成高分子化合物的化合物
[P].
吉村研
论文数:
0
引用数:
0
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0
吉村研
;
大家健一郎
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0
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0
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0
大家健一郎
.
中国专利
:CN105254645A
,2016-01-20
[2]
用于形成高分子化合物的化合物
[P].
吉村研
论文数:
0
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0
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0
吉村研
;
大家健一郎
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0
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0
大家健一郎
.
中国专利
:CN105601662A
,2016-05-25
[3]
高分子化合物
[P].
吉村研
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0
吉村研
;
大家健一郎
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大家健一郎
.
中国专利
:CN102597047B
,2012-07-18
[4]
高分子化合物
[P].
吉村研
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0
吉村研
;
大家健一郎
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大家健一郎
.
中国专利
:CN102597045A
,2012-07-18
[5]
高分子化合物
[P].
吉村研
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吉村研
;
大家健一郎
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大家健一郎
.
中国专利
:CN105315440A
,2016-02-10
[6]
高分子化合物
[P].
吉村研
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吉村研
;
大家健一郎
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大家健一郎
.
中国专利
:CN105439976A
,2016-03-30
[7]
高分子化合物
[P].
吉村研
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吉村研
;
大家健一郎
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大家健一郎
.
中国专利
:CN102858840B
,2013-01-02
[8]
高分子化合物及其制造方法以及含有该高分子化合物的组合物
[P].
小熊润
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小熊润
;
小广健司
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0
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0
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小广健司
.
中国专利
:CN101809058A
,2010-08-18
[9]
高分子化合物、含有该高分子化合物的薄膜和墨液组合物
[P].
泷宫和男
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0
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泷宫和男
;
尾坂格
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尾坂格
;
小广健司
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小广健司
;
大家健一郎
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大家健一郎
;
三宅邦仁
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0
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三宅邦仁
.
中国专利
:CN102666643A
,2012-09-12
[10]
高分子化合物
[P].
K·A·霍德
论文数:
0
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K·A·霍德
;
K·A·迪灵翰姆
论文数:
0
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0
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0
K·A·迪灵翰姆
.
中国专利
:CN1152059C
,2002-05-08
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