硅片清洗剂及其制备方法

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专利类型
发明
申请号
CN200810123225.0
申请日
2008-06-13
公开(公告)号
CN101314750A
公开(公告)日
2008-12-03
发明(设计)人
唐玉冰
申请人
申请人地址
211409江苏省仪征市大仪镇天扬路北133号仪征市得力表面处理剂厂
IPC主分类号
C11D183
IPC分类号
C11D306
代理机构
扬州市锦江专利事务所
代理人
江平
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
硅片清洗剂及其制备方法 [P]. 
蒋英 ;
吴伟峰 .
中国专利 :CN103923763A ,2014-07-16
[2]
一种硅片清洗剂的制备方法 [P]. 
唐玉冰 .
中国专利 :CN101602984A ,2009-12-16
[3]
一种水基硅片清洗剂及其制备方法 [P]. 
郭万东 ;
孟祥法 ;
董培才 .
中国专利 :CN103571644A ,2014-02-12
[4]
印刷电路板清洗剂及其制备方法 [P]. 
刘青 ;
马楠 .
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[5]
一种水基PCB电路板清洗剂及其制备方法 [P]. 
刘青 ;
马楠 .
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[6]
玻璃镜片清洗剂及其制备方法 [P]. 
桂成方 ;
桂林 ;
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[7]
精密金属清洗剂及其制备方法 [P]. 
刘平 ;
梅光泉 ;
付四洋 ;
邱龙 ;
熊知行 ;
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[8]
光伏电池硅片清洗剂及其制备方法 [P]. 
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[9]
硅片清洗剂的制备方法 [P]. 
刘玉岭 ;
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檀柏梅 ;
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[10]
硅片清洗剂 [P]. 
黄春来 ;
薛抗美 ;
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陈龙 ;
胡亚兰 .
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