一种含钛有机—无机杂化纳米抗磨损、刻划保护膜

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专利类型
发明
申请号
CN200810135282.0
申请日
2008-08-07
公开(公告)号
CN101644786A
公开(公告)日
2010-02-10
发明(设计)人
胡立江 王砥
申请人
申请人地址
150001黑龙江省哈尔滨市哈尔滨工业大学
IPC主分类号
G02B110
IPC分类号
G02C702 G02B104
代理机构
代理人
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
有机-无机杂化纳米抗磨损、刻化保护膜 [P]. 
胡立江 .
中国专利 :CN1200964C ,2003-04-16
[2]
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[3]
一种有机-无机杂化纳米防腐保护膜 [P]. 
胡立江 .
中国专利 :CN1249178C ,2004-10-27
[4]
一种含钛有机—无机杂化纳米防腐保护膜 [P]. 
胡立江 ;
王砥 .
中国专利 :CN101643906A ,2010-02-10
[5]
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喻琼 ;
喻南 .
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[6]
一种环境友好型有机‑无机杂化防腐保护膜的制备方法 [P]. 
王文庆 .
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[7]
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[8]
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彭福兵 ;
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陆连玉 ;
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[9]
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胡立江 ;
王海燕 .
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[10]
一种有机‑无机杂化整体分离材料的制备方法 [P]. 
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刘胜菊 ;
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