涂敷方法、光学元件以及透镜组件

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201980050301.6

申请日：

2019-07-29

公开(公告)号：

CN112513682A

公开(公告)日：

2021-03-16

发明(设计)人：

中川小百合加本贵则中山隆司山本明典塩原秀 J·T·达玛斯科提渡邉友启

申请人：

申请人地址：

日本京都府

IPC主分类号：

G02B118

IPC分类号：

B32B7023 B32B2700 B32B2730 G02B114

代理机构：

上海专利商标事务所有限公司 31100

代理人：

沈捷

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-03-16	公开	公开
2021-04-02	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G02B 1/18 申请日:20190729

共 50 条

[1]

光学元件以及色差补正透镜 [P].

畠中邦夫 ;

今中嘉彦 ;

门利昌则 .

中国专利 :CN101300286B ,2008-11-05

[2]

光学元件以及投影透镜 [P].

中野喜博 ;

高原浩滋 ;

寺本美雪 .

中国专利 :CN110691996A ,2020-01-14

[3]

光学元件组件以及光学元件组件的制造方法 [P].

森基 ;

下间刚 .

中国专利 :CN105980903A ,2016-09-28

[4]

光学透镜以及使用该光学透镜的透镜组件 [P].

渡边浩 .

中国专利 :CN102508351A ,2012-06-20

[5]

支撑元件以及光学透镜组 [P].

付广伟 ;

詹海斌 ;

陈申杰 .

中国专利 :CN121209029A ,2025-12-26

[6]

光学元件以及映射光学组件 [P].

若泽·齐默尔 ;

乌尔里希·波伊切尔特 ;

约亨·阿尔克姆佩尔 ;

马丁·莱茨 ;

斯特芬·赖歇尔 ;

冈野吉雄 ;

伊冯娜·门克 .

中国专利 :CN101093257B ,2007-12-26

[7]

光学元件的制造方法以及光学元件 [P].

新山聪 ;

川上玲美 .

中国专利 :CN106556943A ,2017-04-05

[8]

光学元件、包括这种光学元件的组件以及制造光学元件的方法 [P].

L·沙班 ;

X·比尔泰 ;

G·肖特 .

法国专利 :CN110770008B ,2025-10-31

[9]

光学元件、包括这种光学元件的组件以及制造光学元件的方法 [P].

L·沙班 ;

X·比尔泰 ;

G·肖特 .

中国专利 :CN110770008A ,2020-02-07

[10]

光学元件及具有该光学元件的透镜 [P].

邹文 ;

史垚 ;

马佳焱 .

中国专利 :CN217404560U ,2022-09-09

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