晶片容器清洗设备

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN01815358.5

申请日：

2001-07-09

公开(公告)号：

CN1452522A

公开(公告)日：

2003-10-29

发明(设计)人：

D·L·哈比梅尔

申请人：

申请人地址：

美国明尼苏达州

IPC主分类号：

B08B302

IPC分类号：

代理机构：

中国专利代理(香港)有限公司

代理人：

崔幼平

法律状态：

公开

国省代码：

引用

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2003-10-29	公开	公开
2004-01-07	实质审查的生效	实质审查的生效
2008-11-26	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回

共 50 条

[1]

晶片清洗方法及晶片清洗设备 [P].

卢建航 ;

曾广艺 ;

王子荣 ;

韦敏华 ;

许剑勇 .

中国专利 :CN118841312A ,2024-10-25

[2]

晶片收纳容器清洗装置 [P].

福冈洋太郎 .

日本专利 :CN120306354A ,2025-07-15

[3]

晶片清洗装置及晶片清洗设备 [P].

张洁 ;

苏双图 ;

林武庆 ;

王泽隆 .

中国专利 :CN111009482B ,2020-04-14

[4]

晶片清洗设备 [P].

王敬 ;

翟志华 .

中国专利 :CN101887844B ,2010-11-17

[5]

晶片清洗设备 [P].

王敬 ;

翟志华 .

中国专利 :CN201699041U ,2011-01-05

[6]

晶片清洗设备 [P].

张宪宰 ;

辛承敃 ;

金石训 ;

金仁基 ;

金兑洪 ;

李根泽 ;

李轸雨 ;

车知勋 ;

崔溶俊 .

中国专利 :CN111834249A ,2020-10-27

[7]

晶片清洗设备 [P].

张宪宰 ;

辛承敃 ;

金石训 ;

金仁基 ;

金兑洪 ;

李根泽 ;

李轸雨 ;

车知勋 ;

崔溶俊 .

韩国专利 :CN111834249B ,2024-12-24

[8]

晶片清洗设备 [P].

王敬 ;

翟志华 .

中国专利 :CN201956323U ,2011-08-31

[9]

半导体清洗设备及晶片清洗方法 [P].

王琳 ;

张明 .

中国专利 :CN112974396B ,2021-06-18

[10]

晶片清洗设备和清洗方法 [P].

陈勇 ;

蔡文必 .

中国专利 :CN114530411A ,2022-05-24

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