X射线透视摄影装置

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN202011285572.0
申请日
2020-11-17
公开(公告)号
CN112890837A
公开(公告)日
2021-06-04
发明(设计)人
钩吉秀 长谷部臣哉
申请人
申请人地址
日本京都府
IPC主分类号
A61B600
IPC分类号
代理机构
北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277
代理人
刘新宇
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 50 条
[1]
X射线透视摄影装置 [P]. 
钩吉秀 ;
长谷部臣哉 .
日本专利 :CN112890837B ,2024-04-30
[2]
X射线透视摄影装置以及X射线透视摄影方法 [P]. 
大村英嗣 .
中国专利 :CN103167832B ,2013-06-19
[3]
X射线透视摄影装置 [P]. 
广濑大 ;
吉田光毅 .
中国专利 :CN114557710A ,2022-05-31
[4]
X射线透视摄影装置 [P]. 
吉田光毅 ;
田中文哲 ;
渡边隆介 .
日本专利 :CN114903505B ,2025-02-14
[5]
X射线透视摄影装置 [P]. 
吉田光毅 ;
田中文哲 ;
渡边隆介 .
中国专利 :CN114795257A ,2022-07-29
[6]
X射线透视摄影装置 [P]. 
吉田光毅 ;
田中文哲 ;
渡边隆介 .
日本专利 :CN114795257B ,2025-08-08
[7]
X射线透视摄影装置 [P]. 
尾园弘和 ;
藤野昭人 .
日本专利 :CN119606407A ,2025-03-14
[8]
X射线透视摄影装置 [P]. 
松田和之 ;
堤田有美 .
日本专利 :CN119730793A ,2025-03-28
[9]
X射线透视摄影装置 [P]. 
吉田光毅 ;
田中文哲 ;
渡边隆介 .
中国专利 :CN114903505A ,2022-08-16
[10]
X射线透视摄影装置 [P]. 
广濑大 ;
吉田光毅 .
日本专利 :CN114557710B ,2025-02-25