投射系统

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201110038240.7
申请日
2011-02-11
公开(公告)号
CN102636939A
公开(公告)日
2012-08-15
发明(设计)人
林鸿儒 胡连福
申请人
申请人地址
中国台湾新竹科学工业园区
IPC主分类号
G03B1754
IPC分类号
G03B2114 G03B2100
代理机构
永新专利商标代理有限公司 72002
代理人
陈松涛;韩宏
法律状态
发明专利申请公布后的视为撤回
国省代码
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共 50 条
[1]
光投射系统 [P]. 
马尔库什·罗西 ;
芙萝音·库图 .
中国专利 :CN111373222A ,2020-07-03
[2]
光学投射系统 [P]. 
纪政宏 ;
刘逸秾 .
中国专利 :CN110519574B ,2019-11-29
[3]
投射装置和投射系统 [P]. 
李斌 ;
肖锟 ;
高婕 ;
黄海 .
中国专利 :CN216817163U ,2022-06-24
[4]
投射装置以及投射系统 [P]. 
陈晋科 .
中国专利 :CN211375200U ,2020-08-28
[5]
投射系统及投射器 [P]. 
米野邦夫 .
中国专利 :CN1297541A ,2001-05-30
[6]
投射方法以及投射系统 [P]. 
山内泰介 .
日本专利 :CN115842905B ,2024-05-28
[7]
投射装置和投射系统 [P]. 
大月伸行 .
中国专利 :CN114578643A ,2022-06-03
[8]
投射系统和投射方法 [P]. 
白木伸征 ;
平塚诚良 ;
小岛真一 ;
浅冈和也 ;
中岛和彦 .
中国专利 :CN105864706B ,2016-08-17
[9]
投射装置和投射系统 [P]. 
森江崇正 .
日本专利 :CN118525185A ,2024-08-20
[10]
投射装置和投射系统 [P]. 
大月伸行 .
日本专利 :CN114578643B ,2024-03-01