高电流密度运行膜极距电解槽

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201510521321.0
申请日
2015-08-24
公开(公告)号
CN105040024B
公开(公告)日
2015-11-11
发明(设计)人
刘跃生 徐国勤
申请人
申请人地址
214444 江苏省无锡市江阴市临港新城利港西安村西安圩45号
IPC主分类号
C25B918
IPC分类号
C25B146
代理机构
江阴市同盛专利事务所(普通合伙) 32210
代理人
唐纫兰;申萍
法律状态
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
国省代码
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共 50 条
[1]
高电流密度运行膜极距电解槽 [P]. 
刘跃生 ;
徐国勤 .
中国专利 :CN205907364U ,2017-01-25
[2]
高电流密度运行膜极距电解单元槽 [P]. 
刘跃生 ;
徐国勤 .
中国专利 :CN205907363U ,2017-01-25
[3]
复极式膜极距电解槽 [P]. 
刘跃生 ;
徐国民 .
中国专利 :CN103266330A ,2013-08-28
[4]
复极式膜极距电解槽 [P]. 
刘跃生 ;
徐国民 .
中国专利 :CN203270047U ,2013-11-06
[5]
复极式膜极距电解槽 [P]. 
刘跃生 ;
徐国勤 .
中国专利 :CN203700535U ,2014-07-09
[6]
高电流密度扩张阳极电解槽 [P]. 
张晶 ;
郭春富 ;
马振宇 .
中国专利 :CN201021460Y ,2008-02-13
[7]
高电密膜极距电解槽 [P]. 
刘跃生 .
中国专利 :CN203065586U ,2013-07-17
[8]
INEOS膜极距电解槽 [P]. 
徐国民 ;
杜承华 ;
杨仕斌 .
中国专利 :CN110205644B ,2024-08-27
[9]
带有循环管的复极式膜极距电解槽 [P]. 
刘跃生 ;
徐国民 .
中国专利 :CN203653710U ,2014-06-18
[10]
一种高电流密度铜电解槽 [P]. 
董华绘 ;
谢锋 ;
王伟 ;
宋锦柯 .
中国专利 :CN214937859U ,2021-11-30