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一种真空高温烧结炉
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202110513803.7
申请日
:
2021-05-12
公开(公告)号
:
CN113375465A
公开(公告)日
:
2021-09-10
发明(设计)人
:
赵成军
申请人
:
申请人地址
:
239000 安徽省滁州市南谯工业开发区乌衣园区
IPC主分类号
:
F27B1702
IPC分类号
:
F27D118
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2021-09-28
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):F27B 17/02 申请日:20210512
2021-09-10
公开
公开
共 50 条
[1]
高温真空烧结炉
[P].
陈龙豪
论文数:
0
引用数:
0
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0
陈龙豪
;
钱虞清
论文数:
0
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0
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0
钱虞清
.
中国专利
:CN204963541U
,2016-01-13
[2]
高温真空烧结炉
[P].
陈龙豪
论文数:
0
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0
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0
陈龙豪
;
钱虞清
论文数:
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0
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钱虞清
.
中国专利
:CN105157416B
,2015-12-16
[3]
一种真空高温烧结炉
[P].
张志
论文数:
0
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0
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0
机构:
四川艾磁电子有限公司
四川艾磁电子有限公司
张志
;
许伟
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0
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机构:
四川艾磁电子有限公司
四川艾磁电子有限公司
许伟
;
石吉友
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机构:
四川艾磁电子有限公司
四川艾磁电子有限公司
石吉友
.
中国专利
:CN223678208U
,2025-12-16
[4]
一种真空高温烧结炉
[P].
王宗
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0
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0
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0
王宗
.
中国专利
:CN216409776U
,2022-04-29
[5]
高温真空烧结炉
[P].
郑铁克
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0
郑铁克
.
中国专利
:CN102331175A
,2012-01-25
[6]
高温真空烧结炉
[P].
郑铁克
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0
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0
郑铁克
.
中国专利
:CN202188751U
,2012-04-11
[7]
一种真空高温烧结炉用真空系统
[P].
赵成军
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0
赵成军
.
中国专利
:CN113427000A
,2021-09-24
[8]
高温烧结炉
[P].
陈梓展
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机构:
拉普拉斯(广州)半导体科技有限公司
拉普拉斯(广州)半导体科技有限公司
陈梓展
;
龙占勇
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机构:
拉普拉斯(广州)半导体科技有限公司
拉普拉斯(广州)半导体科技有限公司
龙占勇
;
韩雪岭
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机构:
拉普拉斯(广州)半导体科技有限公司
拉普拉斯(广州)半导体科技有限公司
韩雪岭
;
林佳继
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0
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机构:
拉普拉斯(广州)半导体科技有限公司
拉普拉斯(广州)半导体科技有限公司
林佳继
.
中国专利
:CN308754702S
,2024-07-26
[9]
高温烧结炉
[P].
耿雷
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耿雷
;
张景平
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张景平
.
中国专利
:CN206064779U
,2017-04-05
[10]
高温烧结炉
[P].
王振文
论文数:
0
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0
王振文
.
中国专利
:CN202747771U
,2013-02-20
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