光刻机的双工件台系统

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201010118906.5

申请日：

2010-03-05

公开(公告)号：

CN102193323B

公开(公告)日：

2011-09-21

发明(设计)人：

郑乐平顾鲜红

申请人：

申请人地址：

201203 上海市张东路1525号

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

代理机构：

上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237

代理人：

屈蘅;李时云

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2013-04-10	授权	授权
2017-07-25	专利权人的姓名或者名称、地址的变更	专利权人的姓名或者名称、地址的变更号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101756189183 IPC(主分类):G03F 7/20 专利号:ZL2010101189065 变更事项:专利权人变更前:上海微电子装备有限公司变更后:上海微电子装备(集团)股份有限公司变更事项:地址变更前:201203 上海市张东路1525号变更后:201203 上海市张东路1525号
2011-09-21	公开	公开
2011-11-23	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101141111603 IPC(主分类):G03F 7/20 专利申请号:2010101189065 申请日:20100305

共 50 条

[1]

光刻机的双工件台系统 [P].

郑乐平 ;

顾鲜红 .

中国专利 :CN101770181A ,2010-07-07

[2]

一种光刻机三工位双工件台 [P].

袁黎明 ;

陈思鲁 ;

钱晨 ;

张驰 ;

杨桂林 ;

张杰 ;

方灶军 .

中国专利 :CN118393817A ,2024-07-26

[3]

零差光栅位移测量系统及光刻机双工件台系统 [P].

请求不公布姓名 ;

请求不公布姓名 .

中国专利 :CN118670268A ,2024-09-20

[4]

基于VxWorks的光刻机双工件台通信方法及装置 [P].

陈兴林 ;

刘川 ;

刘杨 ;

毕延帅 .

中国专利 :CN103439866A ,2013-12-11

[5]

一种光刻机双工件台及其驱动方法 [P].

王保亮 ;

朱岳彬 ;

廖飞红 ;

陈超 .

中国专利 :CN111948906A ,2020-11-17

[6]

适配于光刻机双工件台的激光尺测距采集分析系统 [P].

王有广 .

中国专利 :CN120521499A ,2025-08-22

[7]

光刻机及应用于光刻机中的工件台系统 [P].

陈文枢 ;

王天明 .

中国专利 :CN103472678B ,2013-12-25

[8]

用于浸没式光刻机的双工件台装置以及浸没式光刻机 [P].

丛国栋 ;

郑清泉 ;

方洁 .

中国专利 :CN107561866A ,2018-01-09

[9]

基于光刻机双工件台运动系统的垂向保护方法及装置 [P].

杨开明 ;

成荣 ;

朱煜 ;

张鸣 ;

雷声 ;

刘涛 ;

鲁森 ;

李鑫 .

中国专利 :CN111948917A ,2020-11-17

[10]

防撞装置、工件台系统及光刻机 [P].

张雯 .

中国专利 :CN212586694U ,2021-02-23

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