变倍光学系统以及光学设备

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201780061832.6

申请日：

2017-10-05

公开(公告)号：

CN109804292B

公开(公告)日：

2019-05-24

发明(设计)人：

梅田武伊藤智希芝山敦史

申请人：

申请人地址：

日本东京

IPC主分类号：

G02B1520

IPC分类号：

G02B1318

代理机构：

中原信达知识产权代理有限责任公司 11219

代理人：

季莹;方应星

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-05-25	授权	授权
2019-06-18	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G02B 15/20 申请日:20171005
2019-05-24	公开	公开

共 50 条

[1]

变倍光学系统以及光学设备 [P].

原田壮基 .

中国专利 :CN111458855B ,2020-07-28

[2]

变倍光学系统以及光学设备 [P].

山口悟史 .

中国专利 :CN107615130B ,2018-01-19

[3]

变倍光学系统以及光学设备 [P].

山本浩史 .

日本专利 :CN118192054A ,2024-06-14

[4]

变倍光学系统以及光学设备 [P].

梅田武 ;

伊藤智希 ;

芝山敦史 .

中国专利 :CN113419335A ,2021-09-21

[5]

变倍光学系统以及光学设备 [P].

大竹史哲 .

日本专利 :CN114868067B ,2024-03-22

[6]

变倍光学系统以及光学设备 [P].

籔本洋 .

日本专利 :CN118483813A ,2024-08-13

[7]

变倍光学系统以及光学设备 [P].

大竹史哲 ;

野中杏菜 .

中国专利 :CN113302533B ,2021-08-24

[8]

变倍光学系统以及光学设备 [P].

町田幸介 .

中国专利 :CN113056694B ,2021-06-29

[9]

变倍光学系统以及光学设备 [P].

山本浩史 .

日本专利 :CN114286959B ,2024-02-13

[10]

变倍光学系统以及光学设备 [P].

町田幸介 .

中国专利 :CN113589500A ,2021-11-02

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