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一种实时荧光监测冷冻聚焦离子束加工装置
被引:0
专利类型
:
实用新型
申请号
:
CN202121877669.0
申请日
:
2021-08-11
公开(公告)号
:
CN216144726U
公开(公告)日
:
2022-03-29
发明(设计)人
:
季刚
李硕果
孙飞
申请人
:
申请人地址
:
100101 北京市朝阳区大屯路15号
IPC主分类号
:
G01N2304
IPC分类号
:
G01N23223
G01N2164
G01N2101
代理机构
:
北京中强智尚知识产权代理有限公司 11448
代理人
:
郭晓迪
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2022-03-29
授权
授权
共 50 条
[1]
一种实时荧光监测冷冻聚焦离子束加工装置及方法
[P].
季刚
论文数:
0
引用数:
0
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0
季刚
;
李硕果
论文数:
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0
李硕果
;
孙飞
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孙飞
.
中国专利
:CN113670964A
,2021-11-19
[2]
用于聚焦离子束设备的散热装置及其聚焦离子束设备
[P].
刘宝露
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
苏试宜特(深圳)检测技术有限公司
苏试宜特(深圳)检测技术有限公司
刘宝露
.
中国专利
:CN223206221U
,2025-08-08
[3]
一种回旋离子束加工装置
[P].
任明俊
论文数:
0
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0
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0
任明俊
.
中国专利
:CN212725220U
,2021-03-16
[4]
聚焦离子束探针及装置
[P].
李德元
论文数:
0
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0
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0
李德元
.
中国专利
:CN218470584U
,2023-02-10
[5]
会聚离子束加工装置
[P].
大庭弘
论文数:
0
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0
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0
大庭弘
;
杉山安彦
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杉山安彦
;
中川良知
论文数:
0
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0
中川良知
;
永原幸儿
论文数:
0
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永原幸儿
.
中国专利
:CN113436952A
,2021-09-24
[6]
会聚离子束加工装置
[P].
大庭弘
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机构:
株式会社日立高新技术分析
株式会社日立高新技术分析
大庭弘
;
杉山安彦
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机构:
株式会社日立高新技术分析
株式会社日立高新技术分析
杉山安彦
;
中川良知
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0
机构:
株式会社日立高新技术分析
株式会社日立高新技术分析
中川良知
;
永原幸儿
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0
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0
机构:
株式会社日立高新技术分析
株式会社日立高新技术分析
永原幸儿
.
日本专利
:CN113436952B
,2025-09-05
[7]
一种新型离子束聚焦装置
[P].
黄玉峰
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机构:
深圳扩维原子科技有限公司
深圳扩维原子科技有限公司
黄玉峰
;
曹路
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0
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0
机构:
深圳扩维原子科技有限公司
深圳扩维原子科技有限公司
曹路
.
中国专利
:CN221885050U
,2024-10-22
[8]
一种回旋离子束加工装置
[P].
任明俊
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0
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机构:
霖鼎光学(上海)有限公司
霖鼎光学(上海)有限公司
任明俊
.
中国专利
:CN111739776B
,2024-11-22
[9]
一种回旋离子束加工装置
[P].
任明俊
论文数:
0
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0
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0
任明俊
.
中国专利
:CN111739776A
,2020-10-02
[10]
聚焦离子束系统及改进聚焦粒子束加工的方法
[P].
T.米勒
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0
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0
T.米勒
;
S.克罗格
论文数:
0
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0
S.克罗格
;
S.张
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0
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S.张
;
M.马佐斯
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0
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0
M.马佐斯
;
A.格劳佩拉
论文数:
0
引用数:
0
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0
A.格劳佩拉
.
中国专利
:CN103456588B
,2013-12-18
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