一种用于化学机械抛光的抛光头

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专利类型
实用新型
申请号
CN201320581451.X
申请日
2013-09-18
公开(公告)号
CN203495741U
公开(公告)日
2014-03-26
发明(设计)人
刘威 顾亚平 魏向荣
申请人
申请人地址
200433 上海市杨浦区国定路335号2号楼2401室
IPC主分类号
B24B3711
IPC分类号
代理机构
上海新天专利代理有限公司 31213
代理人
张泽纯
法律状态
授权
国省代码
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共 50 条
[1]
一种用于化学机械抛光的抛光头 [P]. 
黄仁东 .
中国专利 :CN207027220U ,2018-02-23
[2]
一种用于化学机械抛光的抛光头 [P]. 
熊世伟 .
中国专利 :CN203092329U ,2013-07-31
[3]
用于化学机械抛光头的气膜、化学机械抛光头及抛光设备 [P]. 
赵德文 .
中国专利 :CN112108990A ,2020-12-22
[4]
抛光头和化学机械抛光设备 [P]. 
赵德文 ;
路新春 .
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[5]
一种用于化学机械抛光的抛光头 [P]. 
路新春 ;
王同庆 ;
朱煜 ;
雒建斌 .
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[6]
应用于化学机械抛光工艺的抛光头及化学机械抛光方法 [P]. 
曾佑祥 ;
施继雄 ;
周梅生 ;
于劲 ;
邹峥 ;
周文湛 .
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[7]
抛光头组件、化学机械抛光装置 [P]. 
权林 ;
季文明 ;
胡建平 .
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[8]
抛光头及化学机械抛光设备 [P]. 
王宇 ;
孟松林 ;
马逸麟 .
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[9]
一种抛光头和化学机械抛光装置 [P]. 
程子政 ;
孟松林 ;
温世乾 ;
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[10]
化学机械抛光机的抛光头支架 [P]. 
路新春 ;
许振杰 ;
何永勇 ;
王同庆 ;
沈攀 ;
赵德文 ;
梅赫赓 ;
张连清 ;
裴召辉 ;
雒建斌 .
中国专利 :CN201833261U ,2011-05-18