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紫外红外双色焦平面探测器阵列及其性能设计和制备方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201610406753.1
申请日
:
2016-06-12
公开(公告)号
:
CN105914252A
公开(公告)日
:
2016-08-31
发明(设计)人
:
胡伟达
白杰
陈效双
陆卫
申请人
:
申请人地址
:
200083 上海市虹口区玉田路500号
IPC主分类号
:
H01L31103
IPC分类号
:
H01L3118
代理机构
:
上海新天专利代理有限公司 31213
代理人
:
郭英
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2016-09-28
实质审查的生效
实质审查的生效 号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101680688245 IPC(主分类):H01L 31/103 专利申请号:2016104067531 申请日:20160612
2016-08-31
公开
公开
2017-06-27
授权
授权
共 50 条
[1]
一种紫外和红外双色焦平面探测器阵列
[P].
胡伟达
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胡伟达
;
白杰
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白杰
;
陈效双
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陈效双
;
陆卫
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陆卫
.
中国专利
:CN205810842U
,2016-12-14
[2]
红外焦平面探测器及其制备方法
[P].
白谢晖
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白谢晖
.
中国专利
:CN108987523A
,2018-12-11
[3]
双色红外焦平面探测器及其台面刻蚀工艺方法
[P].
刘志方
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刘志方
;
杨晓杰
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杨晓杰
.
中国专利
:CN112466970B
,2021-03-09
[4]
双热敏层红外焦平面探测器及其制备方法
[P].
钱良山
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机构:
浙江大立科技股份有限公司
浙江大立科技股份有限公司
钱良山
;
范延军
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机构:
浙江大立科技股份有限公司
浙江大立科技股份有限公司
范延军
;
马志刚
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机构:
浙江大立科技股份有限公司
浙江大立科技股份有限公司
马志刚
;
姜骥
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机构:
浙江大立科技股份有限公司
浙江大立科技股份有限公司
姜骥
;
吴高军
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机构:
浙江大立科技股份有限公司
浙江大立科技股份有限公司
吴高军
;
姜利军
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机构:
浙江大立科技股份有限公司
浙江大立科技股份有限公司
姜利军
.
中国专利
:CN118857472A
,2024-10-29
[5]
红外焦平面探测器芯片及其制备方法
[P].
不公告发明人
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不公告发明人
.
中国专利
:CN112216710A
,2021-01-12
[6]
红外焦平面芯片及其制备方法、红外焦平面探测器
[P].
黄立
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黄立
;
凡陈玲
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凡陈玲
;
汪良衡
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汪良衡
;
刘文波
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刘文波
;
金迎春
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金迎春
;
操神送
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操神送
;
丁颜颜
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丁颜颜
;
刘斌
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刘斌
;
周文洪
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周文洪
.
中国专利
:CN113690262B
,2021-11-23
[7]
红外焦平面探测器及其制备方法
[P].
唐鑫
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唐鑫
;
刘雁飞
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刘雁飞
.
中国专利
:CN114520243A
,2022-05-20
[8]
红外焦平面探测器及其制备方法
[P].
唐鑫
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唐鑫
;
刘雁飞
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刘雁飞
.
中国专利
:CN114530468A
,2022-05-24
[9]
红外焦平面探测器
[P].
孟庆端
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孟庆端
;
张晓玲
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张晓玲
;
赵旭辉
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赵旭辉
;
宋璐
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宋璐
;
李娜
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李娜
;
司乐飞
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司乐飞
.
中国专利
:CN105244355B
,2016-01-13
[10]
一种叠层双色红外焦平面探测器及其制备方法
[P].
司俊杰
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司俊杰
;
曹先存
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曹先存
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鲁正雄
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鲁正雄
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张利学
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张利学
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侯治锦
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侯治锦
;
吕衍秋
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吕衍秋
.
中国专利
:CN107706261B
,2018-02-16
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