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一种双端面研磨机的下盘及双端面研磨机
被引：0
专利类型：
实用新型
申请号：
CN201821610634.9
申请日：
2018-09-29
公开(公告)号：
CN209140642U
公开(公告)日：
2019-07-23
发明(设计)人：
韩文光
丁爱民
申请人：
申请人地址：
300385 天津市西青区大寺镇赛达国际工业城D3-1厂房
IPC主分类号：
B24B3708
IPC分类号：
B24B3734
代理机构：
北京思格颂知识产权代理有限公司 11635
代理人：
潘珺;杨超
法律状态：
授权
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2019-07-23 | 授权 | 授权 |