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二氧化硅增透膜的制备方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN97106405.9
申请日
:
1997-04-29
公开(公告)号
:
CN1197928A
公开(公告)日
:
1998-11-04
发明(设计)人
:
朱从善
汤加苗
申请人
:
申请人地址
:
201800上海市800-211邮政信箱李兰英
IPC主分类号
:
G02B110
IPC分类号
:
代理机构
:
上海华东专利事务所
代理人
:
李兰英
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
1998-11-04
公开
公开
2005-06-29
专利权的终止未缴年费专利权终止
专利权的终止未缴年费专利权终止
1998-06-03
实质审查请求的生效
实质审查请求的生效
共 50 条
[1]
二氧化硅增透膜的制备方法
[P].
王云
论文数:
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王云
;
周剑飞
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周剑飞
;
李宏建
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李宏建
;
夏辉
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夏辉
.
中国专利
:CN107935406B
,2018-04-20
[2]
一种二氧化硅增透膜的制备方法
[P].
万莉莉
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万莉莉
;
熊政伟
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熊政伟
;
竹文坤
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竹文坤
;
高志朋
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高志朋
.
中国专利
:CN115555235A
,2023-01-03
[3]
一种二氧化硅增透膜的制备方法
[P].
张斌
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张斌
;
薛进营
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薛进营
;
周维
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周维
.
中国专利
:CN101995589A
,2011-03-30
[4]
梯度折射率二氧化硅增透膜玻璃及其制备方法
[P].
赵青南
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赵青南
;
董玉红
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董玉红
.
中国专利
:CN102991033A
,2013-03-27
[5]
一种改性二氧化硅增透膜的制备方法
[P].
邢作新
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邢作新
;
高桐
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高桐
;
钱启伟
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钱启伟
;
刘长城
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刘长城
.
中国专利
:CN107188425A
,2017-09-22
[6]
一种透明二氧化硅增透膜镀膜工艺
[P].
丁庆峰
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丁庆峰
.
中国专利
:CN113493311B
,2021-10-12
[7]
二氧化硅颗粒以及二氧化硅颗粒的制备方法
[P].
奥野广良
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奥野广良
;
井上敏司
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井上敏司
;
饭田能史
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饭田能史
;
中岛与人
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中岛与人
;
钱谷优香
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钱谷优香
;
惠利祥史
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惠利祥史
;
角仓康夫
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角仓康夫
;
师冈泰久
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师冈泰久
;
野崎骏介
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野崎骏介
;
岩永猛
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岩永猛
;
竹内荣
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竹内荣
.
中国专利
:CN106517214A
,2017-03-22
[8]
多孔二氧化硅的制备方法以及多孔二氧化硅
[P].
今井宏明
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今井宏明
;
绪明佑哉
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绪明佑哉
;
渡辺洋人
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渡辺洋人
.
中国专利
:CN102834355B
,2012-12-19
[9]
表面超快疏水处理的二氧化硅增透膜及其制备方法
[P].
江波
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江波
;
张欣向
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张欣向
;
夏碧波
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夏碧波
;
张雨露
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张雨露
.
中国专利
:CN102875033A
,2013-01-16
[10]
二氧化硅的制备方法
[P].
陈华伦
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陈华伦
;
陈瑜
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陈瑜
;
熊涛
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熊涛
;
罗啸
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罗啸
;
陈雄斌
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陈雄斌
.
中国专利
:CN101442019A
,2009-05-27
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