光敏组合物及其中使用的化合物

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201280034988.2

申请日：

2012-06-07

公开(公告)号：

CN103718110A

公开(公告)日：

2014-04-09

发明(设计)人：

李健雨

申请人：

申请人地址：

韩国首尔

IPC主分类号：

G03F7075

IPC分类号：

G03F7004 G03F7027

代理机构：

北京北翔知识产权代理有限公司 11285

代理人：

吴晓萍;钟守期

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2017-05-31	授权	授权
2014-04-09	公开	公开
2014-05-07	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101582049622 IPC(主分类):G03F 7/075 专利申请号:2012800349882 申请日:20120607

共 50 条

[1]

光敏组合物及其使用的新型化合物 [P].

涉谷明规 .

中国专利 :CN1534379A ,2004-10-06

[2]

正型抗蚀剂组合物以及其中使用的化合物 [P].

新田和行 .

中国专利 :CN100510960C ,2005-12-07

[3]

光敏化合物及其制备方法、光敏化合物组合物及其固化物 [P].

马晓东 ;

姜学松 ;

村上泰治 .

中国专利 :CN110850678A ,2020-02-28

[4]

光敏化合物及其制备方法、光敏化合物组合物及其固化物 [P].

马晓东 ;

姜学松 ;

村上泰治 .

日本专利 :CN110850678B ,2024-03-15

[5]

光敏化合物和包含该光敏化合物的光敏组合物 [P].

朴柱铉 ;

姜锡灿 ;

曺正焕 ;

孙敬喆 .

中国专利 :CN102001976A ,2011-04-06

[6]

光敏化合物和光敏组合物 [P].

渡辺哲也 ;

向井孝夫 ;

丹羽恭规 ;

野田桂子 ;

渡部千代治 .

中国专利 :CN1297430A ,2001-05-30

[7]

硫醇化合物和使用该硫醇化合物的光敏组合物 [P].

镰田博稔 ;

大西美奈 ;

室伏克己 .

中国专利 :CN101048373A ,2007-10-03

[8]

对阳离子敏感的复合结构及其中使用的化合物 [P].

J·E·特伦德 ;

C·A·基普克 ;

M·A·罗斯曼 ;

M·雅福索 ;

S·L·帕迪尔 .

中国专利 :CN1106407A ,1995-08-09

[9]

有机电致发光器件和其中使用的化合物 [P].

奥利弗·朗古特 ;

朴茂真 ;

弗拉迪米尔·乌瓦罗夫 .

德国专利 :CN117413634A ,2024-01-16

[10]

化合物、组合物及其使用方法 [P].

J·廖 ;

J·E·马克尔 ;

G·托帕洛夫 ;

M·蒙森 ;

S·图赖拉特纳姆 ;

B·赫斯 ;

Z·高 ;

G·D·赫尔伯特 ;

A·古德 ;

R·瓦兹 ;

J·刘 ;

Y·李 ;

A·鲁文斯基 ;

M·科特 ;

D·博彻丁 ;

P·伯纳德利 ;

A·吉内沃伊斯·博雷拉 ;

F·卡萨内尔 ;

I·德维勒斯 ;

E·尼古拉 ;

F·斯洛温斯基 ;

F·汤普森 ;

L·施温克 ;

H·格隆比克 ;

S·盖斯雷根 ;

M·波德施瓦 ;

N·拉克尔曼 ;

S·鲁夫 .

美国专利 :CN120584119A ,2025-09-02

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