一种SGT-MOSFET及其制造方法

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专利类型
发明
申请号
CN202110653721.2
申请日
2021-06-11
公开(公告)号
CN113471078A
公开(公告)日
2021-10-01
发明(设计)人
高学 代萌
申请人
申请人地址
200135 上海市浦东新区中国(上海)自由贸易试验区盛夏路560号904室
IPC主分类号
H01L21336
IPC分类号
H01L2128 H01L2978 H01L29423
代理机构
北京智托宝知识产权代理有限公司 11958
代理人
刘奕彤
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 50 条
[1]
一种SGT-MOSFET器件的制备方法及SGT-MOSFET器件 [P]. 
刘科科 ;
何增谊 ;
乐双申 ;
张立波 ;
袁晴雯 .
中国专利 :CN118553614A ,2024-08-27
[2]
一种SGT-MOSFET元胞及其制造方法和一种电子装置 [P]. 
和巍巍 ;
李学会 .
中国专利 :CN115458599A ,2022-12-09
[3]
一种SGT-MOSFET元胞及其制造方法和一种电子装置 [P]. 
和巍巍 ;
李学会 .
中国专利 :CN115458599B ,2025-12-19
[4]
一种SGT-MOSFET的制作方法 [P]. 
刘科科 ;
钟义栋 ;
董云 .
中国专利 :CN117524878A ,2024-02-06
[5]
一种SGT-MOSFET器件及其制作工艺 [P]. 
刘科科 ;
钟义栋 ;
董云 .
中国专利 :CN117637480A ,2024-03-01
[6]
SGT-MOSFET半导体器件的制备方法 [P]. 
楼颖颖 ;
李铁生 .
中国专利 :CN114520146B ,2024-09-17
[7]
SGT-MOSFET半导体器件的制备方法 [P]. 
楼颖颖 ;
李铁生 .
中国专利 :CN114520146A ,2022-05-20
[8]
一种SGT-MOSFET半导体器件 [P]. 
张帅 ;
黄昕 ;
张攀 .
中国专利 :CN111211174B ,2020-05-29
[9]
一种解决SGT-MOSFET栅极多晶硅刻蚀穿通的工艺方法 [P]. 
代萌 .
中国专利 :CN113690143B ,2024-07-26
[10]
一种解决SGT-MOSFET栅极多晶硅刻蚀穿通的工艺方法 [P]. 
代萌 .
中国专利 :CN113690143A ,2021-11-23