变焦光学系统和光学设备

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201610423906.3

申请日：

2010-09-30

公开(公告)号：

CN106094180B

公开(公告)日：

2016-11-09

发明(设计)人：

原田壮基

申请人：

申请人地址：

日本东京

IPC主分类号：

G02B1514

IPC分类号：

G02B1300

代理机构：

中原信达知识产权代理有限责任公司 11219

代理人：

鲁山;孙志湧

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2016-12-07	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101690433718 IPC(主分类):G02B 15/14 专利申请号:2016104239063 申请日:20100930
2016-11-09	公开	公开
2018-08-03	授权	授权

共 50 条

[1]

变焦光学系统和光学设备 [P].

原田壮基 .

中国专利 :CN105974565B ,2016-09-28

[2]

变焦光学系统、光学设备和用于制造变焦光学系统的方法 [P].

原田壮基 .

中国专利 :CN102053345A ,2011-05-11

[3]

变焦光学系统、光学设备和用于制造变焦光学系统的方法 [P].

原田壮基 .

中国专利 :CN105137695A ,2015-12-09

[4]

目镜变焦光学系统及光学设备 [P].

宫崎阳介 .

中国专利 :CN103221869A ,2013-07-24

[5]

变焦光学系统、光学设备和用于制造变焦光学系统的方法 [P].

山下雅史 .

中国专利 :CN104272163A ,2015-01-07

[6]

光学系统和光学设备 [P].

小滨昭彦 .

中国专利 :CN101377565A ,2009-03-04

[7]

变焦光学系统及光学设备 [P].

若林央 ;

安西晓 .

中国专利 :CN100406952C ,2005-10-19

[8]

光学系统及光学设备 [P].

仓茂孝道 .

日本专利 :CN114424105B ,2025-01-17

[9]

光学系统、光学设备和用于制造光学系统的方法 [P].

古井田启吾 .

中国专利 :CN104169774B ,2014-11-26

[10]

变焦光学系统、具有该变焦光学系统的光学设备和用于制造变焦光学系统的方法 [P].

伊藤智希 .

中国专利 :CN103443687A ,2013-12-11

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