高光谱成像装置

被引:0
申请号
CN202180039795.5
申请日
2021-04-21
公开(公告)号
CN115702328A
公开(公告)日
2023-02-14
发明(设计)人
凯·奥贾拉 海基·萨利
申请人
申请人地址
芬兰埃斯波
IPC主分类号
G01J326
IPC分类号
G01J328 G02B300 G02B1322 G02B2600
代理机构
成都超凡明远知识产权代理有限公司 51258
代理人
张云娇
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
光谱成像装置和方法 [P]. 
谢勇 ;
董泳江 .
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[2]
高光谱成像装置 [P]. 
H·萨里 ;
S·西卡南 .
中国专利 :CN108780008A ,2018-11-09
[3]
高光谱传感器、高光谱成像系统以及高光谱成像方法 [P]. 
宋贞虎 .
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[4]
水下高灵敏光谱成像装置 [P]. 
高晓惠 ;
李学龙 ;
王飞橙 ;
魏儒义 ;
于涛 ;
李立波 ;
卫翠玉 ;
胡炳樑 .
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[5]
光谱成像装置 [P]. 
杨永霖 ;
周莹 .
中国专利 :CN118392307A ,2024-07-26
[6]
光谱成像装置 [P]. 
杨永霖 ;
周莹 .
中国专利 :CN222231863U ,2024-12-24
[7]
纳米光子高光谱成像 [P]. 
李秉熙 ;
R·M·小格拉韦勒 ;
S·博尔塔库尔 .
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[8]
高光谱成像装置 [P]. 
薛原 ;
刘强强 ;
赵瑞凡 ;
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[9]
高光谱成像装置 [P]. 
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[10]
高光谱成像装置 [P]. 
缪同群 .
中国专利 :CN112964360B ,2021-06-15