光耦合器的制造方法

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专利类型
发明
申请号
CN200610091347.7
申请日
2006-06-16
公开(公告)号
CN101089665A
公开(公告)日
2007-12-19
发明(设计)人
李名京 庄世任 徐志宏 赵一虎
申请人
申请人地址
台湾省台北县土城市中央路三段76巷25号
IPC主分类号
G02B624
IPC分类号
代理机构
北京市金杜律师事务所
代理人
楼仙英
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
光耦合器及制造光耦合器的方法 [P]. 
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光耦合器导线架及光耦合器制造方法 [P]. 
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制造光耦合器的方法 [P]. 
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光耦合器及其制造方法 [P]. 
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芳贺健二 ;
伊缝幸利 ;
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土森正昭 ;
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S·张 ;
梁迪 ;
S·斯里尼瓦桑 .
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光耦合器的石英基板的制造方法 [P]. 
温良铭 ;
温良诚 .
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