一种氧化石墨烯基镉离子印迹聚合物的制备方法及应用

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201510525885.1
申请日
2015-08-25
公开(公告)号
CN105080512B
公开(公告)日
2017-10-20
发明(设计)人
刘燕 刘占超 胡肖 孟祥国
申请人
申请人地址
212013 江苏省镇江市京口区学府路301号
IPC主分类号
B01J2026
IPC分类号
B01J2030 C02F128 C02F162 C02F10120
代理机构
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法律状态
实质审查的生效
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共 50 条
[1]
一种活性/可控氧化石墨烯表面离子印迹聚合物及其制备方法与应用 [P]. 
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孟祥国 ;
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[2]
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刘燕 ;
钟国星 ;
孟敏佳 ;
刘方方 .
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[3]
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[4]
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姜海燕 ;
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[5]
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丛姣姣 ;
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[6]
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陈贝贝 .
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[7]
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屠迎锋 ;
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马丽君 ;
朱秀林 ;
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[8]
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王迎斌 ;
宋钰莹 ;
贺行洋 ;
苏英 ;
刘飞宏 .
中国专利 :CN110591009A ,2019-12-20
[9]
一种还原氧化石墨烯的表面分子印迹聚合物材料 [P]. 
黄丽芸 ;
王霄 ;
招家欣 .
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[10]
烷基酚复合模板分子印迹聚合物修饰磁性氧化石墨烯的制备及应用方法 [P]. 
马晓国 ;
谢晓纹 ;
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