版图修正方法及系统、掩模版、设备和存储介质

被引：0

申请号：

CN202110127800.X

申请日：

2021-01-29

公开(公告)号：

CN114815495A

公开(公告)日：

2022-07-29

发明(设计)人：

何超苏柏青苏柏松

申请人：

申请人地址：

201203 上海市浦东新区中国（上海）自由贸易试验区张江路18号

IPC主分类号：

G03F136

IPC分类号：

G03F172

代理机构：

上海知锦知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31327

代理人：

高静

法律状态：

公开

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-07-29	公开	公开
2022-08-16	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 1/36 申请日:20210129

共 50 条

[1]

版图修正方法及系统、掩模版、设备和存储介质 [P].

何超 ;

苏柏青 ;

苏柏松 .

中国专利 :CN114815495B ,2024-07-02

[2]

掩模版图案修正方法、装置、计算机设备及可读存储介质 [P].

柯思羽 ;

周育润 ;

陈冠廷 ;

张凯翔 .

中国专利 :CN112433442A ,2021-03-02

[3]

掩模版图案修正方法、装置、计算机设备及可读存储介质 [P].

柯思羽 ;

周育润 ;

陈冠廷 ;

张凯翔 .

中国专利 :CN112433442B ,2024-06-21

[4]

掩模版线边修正方法、装置、设备、存储介质及产品 [P].

何俊龙 ;

雷健 ;

谢超 ;

崔嘉豪 .

中国专利 :CN119247689A ,2025-01-03

[5]

版图修正方法、装置、设备及存储介质 [P].

石方毅 ;

曾辉 .

中国专利 :CN117348332A ,2024-01-05

[6]

版图修正方法、装置、设备及存储介质 [P].

石方毅 ;

曾辉 .

中国专利 :CN117348332B ,2024-02-02

[7]

版图修正方法、存储介质和存储终端 [P].

贾敏 ;

聂智勇 ;

王兴荣 .

中国专利 :CN120030618A ,2025-05-23

[8]

版图修正方法、存储介质和存储终端 [P].

林泽邦 ;

任堃 ;

高大为 ;

吴永玉 .

中国专利 :CN119126479A ,2024-12-13

[9]

版图修正方法、存储介质及终端 [P].

王占雨 .

中国专利 :CN118689030A ,2024-09-24

[10]

版图修正方法、存储介质及终端 [P].

李彦江 ;

任堃 ;

高大为 ;

吴永玉 .

中国专利 :CN119250011A ,2025-01-03

← 1 2 3 4 5 →