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烧结体、溅射靶及其制造方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201710734442.2
申请日
:
2017-08-24
公开(公告)号
:
CN107779821B
公开(公告)日
:
2018-03-09
发明(设计)人
:
挂野崇
梶山纯
申请人
:
申请人地址
:
日本东京都
IPC主分类号
:
C23C1408
IPC分类号
:
C23C1434
代理机构
:
北京品源专利代理有限公司 11332
代理人
:
吕琳;朴秀玉
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2020-12-18
授权
授权
2018-03-09
公开
公开
2018-04-03
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 14/08 申请日:20170824
共 50 条
[1]
IZO烧结体溅射靶及其制造方法
[P].
挂野崇
论文数:
0
引用数:
0
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0
挂野崇
;
山口洋平
论文数:
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山口洋平
;
远藤瑶辅
论文数:
0
引用数:
0
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0
远藤瑶辅
.
中国专利
:CN107614741B
,2018-01-19
[2]
烧结体、溅射靶及烧结体的制造方法
[P].
秀岛正章
论文数:
0
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0
秀岛正章
;
角田浩二
论文数:
0
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0
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角田浩二
.
中国专利
:CN110937891A
,2020-03-31
[3]
钨烧结体溅射靶及其制造方法
[P].
大桥一允
论文数:
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0
大桥一允
;
冈部岳夫
论文数:
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0
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冈部岳夫
.
中国专利
:CN105102670B
,2015-11-25
[4]
烧结体溅射靶
[P].
佐藤敦
论文数:
0
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0
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0
佐藤敦
;
中村祐一郎
论文数:
0
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0
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中村祐一郎
.
中国专利
:CN103270190B
,2013-08-28
[5]
氧化物烧结体溅射靶及其制造方法
[P].
高桥一寿
论文数:
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高桥一寿
;
日高浩二
论文数:
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日高浩二
;
川越裕
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川越裕
;
武末健太郎
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武末健太郎
;
和田优
论文数:
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和田优
;
上野充
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上野充
;
清田淳也
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清田淳也
;
小林大士
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小林大士
;
武井应树
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武井应树
.
中国专利
:CN108350564A
,2018-07-31
[6]
溅射靶及其制造方法
[P].
山本浩由
论文数:
0
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机构:
JX金属株式会社
JX金属株式会社
山本浩由
;
奈良淳史
论文数:
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机构:
JX金属株式会社
JX金属株式会社
奈良淳史
.
日本专利
:CN117396630A
,2024-01-12
[7]
溅射靶及其制造方法
[P].
张守斌
论文数:
0
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0
张守斌
;
梅本启太
论文数:
0
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0
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0
梅本启太
.
中国专利
:CN104520468A
,2015-04-15
[8]
溅射靶及其制造方法
[P].
张守斌
论文数:
0
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张守斌
;
梅本启太
论文数:
0
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梅本启太
;
小路雅弘
论文数:
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0
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小路雅弘
.
中国专利
:CN104024470A
,2014-09-03
[9]
氧化物烧结体、溅射靶及溅射靶的制造方法
[P].
海上晓
论文数:
0
引用数:
0
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0
海上晓
.
中国专利
:CN113423860A
,2021-09-21
[10]
氧化物烧结体、溅射靶以及溅射靶的制造方法
[P].
海上晓
论文数:
0
引用数:
0
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0
海上晓
.
中国专利
:CN113677821A
,2021-11-19
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