单轴晶体双折射率的测量方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200710115653.4

申请日：

2007-12-19

公开(公告)号：

CN101187631A

公开(公告)日：

2008-05-28

发明(设计)人：

连洁魏爱俭王青圃

申请人：

申请人地址：

250100山东省济南市历下区山大南路27号

IPC主分类号：

G01N2159

IPC分类号：

G01N2117 G06F1710

代理机构：

济南金迪知识产权代理有限公司

代理人：

许德山

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2008-05-28	公开	公开
2008-07-23	实质审查的生效	实质审查的生效
2010-07-21	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回号牌文件类型代码:1603 号牌文件序号:101003375294 IPC(主分类):G01N 21/59 专利申请号:2007101156534 公开日:20080528

共 50 条

[1]

测量双折射单轴晶体波片厚度的方法 [P].

林礼煌 ;

冯伟伟 ;

欧阳斌 .

中国专利 :CN100340838C ,2006-03-08

[2]

同时测量双折射元件厚度及折射率的测量方法 [P].

张书练 ;

陈文学 ;

谈宜东 .

中国专利 :CN103196865A ,2013-07-10

[3]

测量双折射单轴晶体波片厚度的装置 [P].

林礼煌 ;

冯伟伟 ;

欧阳斌 .

中国专利 :CN2869774Y ,2007-02-14

[4]

折射率的测量方法和折射率的测量装置 [P].

杉本智洋 .

中国专利 :CN102435584B ,2012-05-02

[5]

晶体宽光谱相位延迟的测量方法 [P].

连洁 ;

魏爱俭 ;

张瑞峰 ;

卜刚 .

中国专利 :CN101201321A ,2008-06-18

[6]

大口径单轴晶体折射率均匀性测量装置 [P].

段亚轩 ;

陈永权 ;

赵怀学 ;

李坤 ;

田留德 ;

赵建科 ;

薛勋 ;

刘尚阔 ;

潘亮 ;

聂申 ;

昌明 ;

张洁 ;

胡丹丹 .

中国专利 :CN204855372U ,2015-12-09

[7]

一种折射率测量设备、折射率测量方法和装置 [P].

牛亚男 ;

彭锦涛 ;

彭宽军 .

中国专利 :CN106290254A ,2017-01-04

[8]

液体折射率测量方法 [P].

范晓辉 ;

韦秋叶 ;

卢敏萍 ;

何日梅 ;

黄翊 ;

冯杰 .

中国专利 :CN112345493A ,2021-02-09

[9]

折射率分布测量方法和折射率分布测量设备 [P].

加藤正磨 .

中国专利 :CN102297758A ,2011-12-28

[10]

折射率分布测量方法和折射率分布测量装置 [P].

杉本智洋 .

中国专利 :CN102062677B ,2011-05-18

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