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光学设备和光学设备制造方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN200710128431.6
申请日
:
2007-07-10
公开(公告)号
:
CN101105568B
公开(公告)日
:
2008-01-16
发明(设计)人
:
清田真人
申请人
:
申请人地址
:
日本东京都大田区下丸子3丁目30番2号
IPC主分类号
:
G02B702
IPC分类号
:
代理机构
:
北京林达刘知识产权代理事务所 11277
代理人
:
刘新宇
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2008-01-16
公开
公开
2008-03-05
实质审查的生效
实质审查的生效
2021-07-06
专利权的终止
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G02B 7/02 申请日:20070710 授权公告日:20100602 终止日期:20200710
2010-06-02
授权
授权
共 50 条
[1]
光学设备和制造光学设备的方法
[P].
耶谢·丹齐格
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
鲁姆斯有限公司
鲁姆斯有限公司
耶谢·丹齐格
;
埃拉德·沙尔林
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
鲁姆斯有限公司
鲁姆斯有限公司
埃拉德·沙尔林
.
:CN118778153A
,2024-10-15
[2]
光学设备和制造光学设备的方法
[P].
朴正佑
论文数:
0
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0
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0
朴正佑
;
权载中
论文数:
0
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0
权载中
;
河周和
论文数:
0
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0
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0
河周和
;
赵玹辰
论文数:
0
引用数:
0
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0
赵玹辰
;
郑秀彬
论文数:
0
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0
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0
郑秀彬
.
中国专利
:CN110737090A
,2020-01-31
[3]
光学设备以及光学设备的制造方法
[P].
小田由香里
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0
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0
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0
机构:
凸版印刷株式会社
凸版印刷株式会社
小田由香里
;
川下雅史
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0
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机构:
凸版印刷株式会社
凸版印刷株式会社
川下雅史
;
石丸佳子
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机构:
凸版印刷株式会社
凸版印刷株式会社
石丸佳子
;
下村温纱
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机构:
凸版印刷株式会社
凸版印刷株式会社
下村温纱
.
日本专利
:CN114829992B
,2025-10-03
[4]
光学设备以及光学设备的制造方法
[P].
小田由香里
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小田由香里
;
川下雅史
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川下雅史
;
石丸佳子
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石丸佳子
;
下村温纱
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下村温纱
.
中国专利
:CN114829992A
,2022-07-29
[5]
光学设备、制造光学设备的方法以及光学设备组装方法
[P].
吉川智
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0
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吉川智
.
中国专利
:CN103543494A
,2014-01-29
[6]
光学设备、电子装置和制造光学设备的方法
[P].
高井雄一
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高井雄一
;
吉田哲之
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吉田哲之
;
石黑裕章
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石黑裕章
;
岛世正博
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0
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岛世正博
.
中国专利
:CN101872032A
,2010-10-27
[7]
光学设备、投影设备和制造光学设备的方法
[P].
爱甲祯久
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0
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0
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0
爱甲祯久
.
中国专利
:CN102981285A
,2013-03-20
[8]
光学设备和光学设备的控制方法
[P].
大川聪
论文数:
0
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0
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大川聪
.
中国专利
:CN104423009A
,2015-03-18
[9]
光学设备
[P].
太田盛也
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0
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0
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太田盛也
.
中国专利
:CN101713903A
,2010-05-26
[10]
光学设备
[P].
太田盛也
论文数:
0
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0
太田盛也
.
中国专利
:CN1975556A
,2007-06-06
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