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透明导电膜用层叠体、透明导电膜、以及透明导电膜的制造方法

被引：0
申请号：
CN202180024883.8
申请日：
2021-03-26
公开(公告)号：
CN115335224A
公开(公告)日：
2022-11-11
发明(设计)人：
木下博贵 永绳智史
申请人：
申请人地址：
日本东京都
IPC主分类号：
B32B2700
IPC分类号：
H01B514 H01B1300 B32B900 B32B2734
代理机构：
北京市柳沈律师事务所 11105
代理人：
杨薇
法律状态：
实质审查的生效
国省代码：
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2022-11-29 实质审查的生效 实质审查的生效 IPC(主分类):B32B 27/00 申请日:20210326
2022-11-11 公开 公开
共 50 条
[1]
透明导电膜用层叠体、透明导电膜、以及透明导电膜的制造方法 [P]. 
木下博贵 ;
永绳智史 .
日本专利 :CN115335224B ,2025-01-03
[2]
透明导电层叠层用膜、其制造方法、以及透明导电膜 [P]. 
森田亘 ;
原务 ;
武藤豪志 ;
近藤健 .
中国专利 :CN108349216A ,2018-07-31
[3]
透明导电膜、层叠体和制造透明导电膜的方法 [P]. 
山田恭太郎 ;
鹤泽俊浩 ;
待永广宣 ;
拜师基希 ;
上田惠梨 .
日本专利 :CN114430852B ,2025-07-29
[4]
透明导电膜、层叠体和制造透明导电膜的方法 [P]. 
山田恭太郎 ;
鹤泽俊浩 ;
待永广宣 ;
拜师基希 ;
上田惠梨 .
中国专利 :CN114430852A ,2022-05-03
[5]
透明导电膜、透明导电膜用靶及透明导电膜用靶的制造方法 [P]. 
朴壮愚 ;
金相熙 .
中国专利 :CN103038834A ,2013-04-10
[6]
透明导电膜中的导电结构、透明导电膜 [P]. 
高育龙 ;
崔铮 ;
孙超 .
中国专利 :CN203038679U ,2013-07-03
[7]
透明导电膜及透明导电膜的制造方法 [P]. 
北野高广 .
中国专利 :CN101669177A ,2010-03-10
[8]
透明导电膜及透明导电膜的制造方法 [P]. 
中川原修 ;
瀨戸弘之 ;
岸本諭卓 .
中国专利 :CN101180687A ,2008-05-14
[9]
透明导电层叠层用膜、其制造方法及透明导电膜 [P]. 
森田亘 ;
原务 ;
西岛健太 ;
武藤豪志 .
中国专利 :CN107405880A ,2017-11-28
[10]
光学用膜、光学用膜的制造方法、透明导电膜、以及阻气膜 [P]. 
木下博贵 ;
永绳智史 .
日本专利 :CN115734875B ,2025-10-28
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