等离子体处理装置和等离子体处理方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202110749578.7

申请日：

2021-07-02

公开(公告)号：

CN113921361A

公开(公告)日：

2022-01-11

发明(设计)人：

田吹圭司户根川大和五十岚一将矢部和雄

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

H01J3732

IPC分类号：

H01L2167 H01L21318

代理机构：

北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277

代理人：

刘新宇

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-01-11	公开	公开

共 50 条

[1]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

松浦广行 .

中国专利 :CN110544613A ,2019-12-06

[2]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

松浦广行 .

日本专利 :CN112786425B ,2024-09-20

[3]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

松浦广行 .

中国专利 :CN112786425A ,2021-05-11

[4]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

舆水地盐 ;

山泽阳平 .

中国专利 :CN102522304A ,2012-06-27

[5]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

东条利洋 ;

藤井祐希 .

中国专利 :CN107275179A ,2017-10-20

[6]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

堀口贵弘 ;

冈信介 .

中国专利 :CN100536634C ,2006-11-15

[7]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

金子和史 .

中国专利 :CN114302547A ,2022-04-08

[8]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

塚原利也 ;

山边周平 ;

谷地晃汰 ;

佐藤徹治 ;

内田阳平 ;

铃木步太 ;

田村洋典 ;

花冈秀敏 ;

佐佐木淳一 .

日本专利 :CN111261511B ,2024-06-18

[9]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

西野雅 ;

真壁正嗣 ;

长山将之 ;

半田达也 ;

绿川良太郎 ;

小林启悟 ;

仁矢铁也 .

中国专利 :CN103959447A ,2014-07-30

[10]

等离子体处理方法和等离子体处理装置 [P].

江藤隆纪 ;

泽田石真之 .

中国专利 :CN109390229A ,2019-02-26

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