一种真空抛洒式粉体处理装置

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN202023296295.1

申请日：

2020-12-30

公开(公告)号：

CN214481425U

公开(公告)日：

2021-10-22

发明(设计)人：

易强刘鑫培王红卫沈文凯

申请人：

申请人地址：

215000 江苏省苏州市高新区竹园路209号4号楼6层605-2室

IPC主分类号：

H05H124

IPC分类号：

代理机构：

苏州科洲知识产权代理事务所(普通合伙) 32435

代理人：

周亮

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-10-22	授权	授权

共 50 条

[1]

一种真空搅拌粉体处理装置 [P].

王红卫 ;

刘鑫培 ;

沈文凯 .

中国专利 :CN215611106U ,2022-01-25

[2]

真空搅拌粉体处理装置 [P].

杨路峰 ;

张志峰 ;

周海东 .

中国专利 :CN222766132U ,2025-04-18

[3]

一种粉体材料表面等离子体处理装置 [P].

沈文凯 ;

王红卫 .

中国专利 :CN203562396U ,2014-04-23

[4]

一种处理粉体材料的高温真空装置 [P].

吴艳坤 ;

田宏良 ;

张强 ;

白松涛 ;

崔建鹏 .

中国专利 :CN204874630U ,2015-12-16

[5]

一种连续干法粉体处理装置 [P].

杜茂松 ;

何建 ;

刘华培 ;

付张硕 .

中国专利 :CN220634349U ,2024-03-22

[6]

一种真空处理装置 [P].

赵鹏 .

中国专利 :CN220514635U ,2024-02-23

[7]

一种无接触式铜粉真空脱氧还原处理装置 [P].

峰山 ;

党聪 ;

新巴雅尔 ;

王俊 ;

刘慧敏 .

中国专利 :CN210475534U ,2020-05-08

[8]

一种粉体处理装置 [P].

江磊 ;

许良锐 ;

刘成 .

中国专利 :CN207507197U ,2018-06-19

[9]

一种新型粉体等离子体处理装置 [P].

王红卫 ;

沈文凯 .

中国专利 :CN203617245U ,2014-05-28

[10]

一种粉体分散处理装置 [P].

周宇 ;

李浩 ;

郑香丽 ;

郭庆 .

中国专利 :CN206285820U ,2017-06-30

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