溅射靶、透明导电膜、透明电极和电极基板及其制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201110267233.4

申请日：

2006-08-30

公开(公告)号：

CN102337505A

公开(公告)日：

2012-02-01

发明(设计)人：

矢野公规井上一吉田中信夫海上晓梅野聪

申请人：

申请人地址：

日本国东京都

IPC主分类号：

C23C1434

IPC分类号：

C23C1408 H01B514

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司 11021

代理人：

雒运朴

法律状态：

发明专利申请公布后的驳回

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2015-07-29	发明专利申请公布后的驳回	发明专利申请公布后的驳回号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101718609383 IPC(主分类):C23C 14/34 专利申请号:2011102672334 申请公布日:20120201
2012-02-01	公开	公开
2012-03-28	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101211313200 IPC(主分类):C23C 14/34 专利申请号:2011102672334 申请日:20060830

共 50 条

[1]

溅射靶、透明导电膜、透明电极和电极基板及其制造方法 [P].

矢野公规 ;

井上一吉 ;

田中信夫 ;

海上晓 ;

梅野聪 .

中国专利 :CN103469167A ,2013-12-25

[2]

溅射靶、透明导电膜及透明电极 [P].

矢野公规 ;

井上一吉 ;

田中信夫 ;

海上晓 ;

梅野聪 .

中国专利 :CN101258263A ,2008-09-03

[3]

溅射靶、透明导电膜及透明电极 [P].

矢野公规 ;

井上一吉 ;

田中信夫 .

中国专利 :CN101268211A ,2008-09-17

[4]

溅射靶、透明导电膜和触摸板用透明电极 [P].

矢野公规 ;

井上一吉 ;

田中信夫 ;

岛根幸朗 .

中国专利 :CN101273153A ,2008-09-24

[5]

溅射靶和透明导电膜 [P].

井上一吉 ;

松崎滋夫 .

中国专利 :CN1283831C ,2004-09-15

[6]

透明导电膜用溅射靶 [P].

矢野智泰 ;

儿平寿博 ;

立山伸一 ;

中村信一郎 .

中国专利 :CN110546299B ,2019-12-06

[7]

透明导电膜的制造方法、透明导电膜的制造装置、溅射靶及透明导电膜 [P].

汤川富之 ;

武井応树 ;

小林大士 ;

赤松泰彦 ;

清田淳也 ;

增泽健二 ;

石桥晓 .

中国专利 :CN102666909A ,2012-09-12

[8]

透明导电膜的制造方法、透明导电膜的制造装置、溅射靶及透明导电膜 [P].

汤川富之 ;

武井応树 ;

小林大士 ;

赤松泰彦 ;

清田淳也 ;

增泽健二 ;

石桥晓 .

中国专利 :CN104213085A ,2014-12-17

[9]

透明导电膜用溅射靶 [P].

矢野智泰 ;

儿平寿博 ;

立山伸一 ;

中村信一郎 .

中国专利 :CN110546300B ,2019-12-06

[10]

透明导电材料、透明导电膏、透明导电膜和透明电极 [P].

安田德行 .

中国专利 :CN1957425A ,2007-05-02

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