一种基于高斯径向基函数曲面的成像系统设计方法

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专利类型
发明
申请号
CN202110365947.2
申请日
2021-04-06
公开(公告)号
CN113126289A
公开(公告)日
2021-07-16
发明(设计)人
杨通 倪俊豪 程德文 王涌天
申请人
申请人地址
100081 北京市海淀区中关村南大街5号
IPC主分类号
G02B2700
IPC分类号
G06K962
代理机构
北京理工大学专利中心 11120
代理人
代丽
法律状态
授权
国省代码
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共 50 条
[1]
基于高斯径向基函数的光学自由曲面表征方法 [P]. 
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[2]
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[3]
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武泽平 ;
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胡凡 ;
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[4]
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彭科 ;
江振宇 ;
张为华 ;
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[5]
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[6]
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[7]
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[8]
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[9]
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闫旭 ;
武佳鑫 ;
刘芳芳 ;
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[10]
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杨亚洲 ;
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