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用于光刻的图像传感器

被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN200880022490.8
申请日：
2008-04-29
公开(公告)号：
CN101720449A
公开(公告)日：
2010-06-02
发明(设计)人：
F·斯塔尔斯 J·洛夫 E·R·鲁普斯卓 W·T·苔尔 B·莫埃斯特
申请人：
申请人地址：
荷兰维德霍温
IPC主分类号：
G03F720
IPC分类号：
G03F900
代理机构：
中科专利商标代理有限责任公司 11021
代理人：
王新华
法律状态：
公开
国省代码：
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2010-06-02 公开 公开
2012-08-08 授权 授权
2010-07-21 实质审查的生效 实质审查的生效 号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101003923902 IPC(主分类):G03F 7/20 专利申请号:2008800224908 申请日:20080429
共 50 条
[1]
用于图像传感器的光刻 [P]. 
佟璐 ;
陈世杰 ;
黄晓橹 .
中国专利 :CN109585482A ,2019-04-05
[2]
用于浸没式光刻的图像传感器 [P]. 
N·巴纳吉 ;
S·赖克 ;
J·F·M·贝克斯 ;
A·J·唐科布洛克 ;
D·格林姆 ;
P·布拉哈奇 ;
T·拉特耶 ;
M·蒂尔克 .
中国专利 :CN113728275A ,2021-11-30
[3]
用于光刻设备的对准传感器 [P]. 
A·波洛 ;
S·G·J·马斯杰森 ;
P·A·J·廷尼曼斯 ;
S·D·克斯顿 ;
R·J·哈弗林 .
中国专利 :CN108112267B ,2018-06-01
[4]
用于光刻设备的集成传感器 [P]. 
钟芳 ;
李运锋 ;
王海江 ;
宋海军 .
中国专利 :CN102736426A ,2012-10-17
[5]
图像传感器以及用于形成图像传感器的方法 [P]. 
蔡敏瑛 ;
李正德 ;
朱瑞霖 ;
李静宜 ;
喻中一 .
中国专利 :CN113838876B ,2024-05-28
[6]
图像传感器以及用于形成图像传感器的方法 [P]. 
蔡敏瑛 ;
李正德 ;
朱瑞霖 ;
李静宜 ;
喻中一 .
中国专利 :CN113838876A ,2021-12-24
[7]
图像传感器和用于形成图像传感器的方法 [P]. 
黄正宇 ;
庄君豪 ;
周耕宇 ;
江伟杰 ;
郭晋嘉 ;
吴纹浩 ;
陈华茂 ;
张志光 .
中国专利 :CN114765190A ,2022-07-19
[8]
图像传感器和用于形成图像传感器的方法 [P]. 
刘柏均 ;
张永昌 ;
陈逸群 .
中国专利 :CN112582434B ,2024-06-11
[9]
图像传感器和用于形成图像传感器的方法 [P]. 
黄正宇 ;
庄君豪 ;
桥本一明 ;
周耕宇 ;
江伟杰 ;
吴纹浩 ;
张志光 .
中国专利 :CN112117289A ,2020-12-22
[10]
图像传感器和用于形成图像传感器的方法 [P]. 
刘柏均 ;
张永昌 ;
陈逸群 .
中国专利 :CN112582434A ,2021-03-30
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