一种集成电路版图设计优化方法和系统

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专利类型
发明
申请号
CN201910026551.8
申请日
2019-01-11
公开(公告)号
CN109740277A
公开(公告)日
2019-05-10
发明(设计)人
吴玉平 陈岚 张学连
申请人
申请人地址
100029 北京市朝阳区北土城西路3号中国科学院微电子研究所
IPC主分类号
G06F1750
IPC分类号
代理机构
北京集佳知识产权代理有限公司 11227
代理人
李婷婷;王宝筠
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 50 条
[1]
一种集成电路版图的设计优化方法及系统 [P]. 
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颜俊杰 ;
颜俊玲 ;
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[2]
集成电路的版图设计方法、版图设计系统和制作方法 [P]. 
孙建伟 ;
陈岚 ;
王海永 .
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[3]
集成电路版图设计系统及方法 [P]. 
邹毅 ;
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施政 ;
姜凌涛 ;
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[4]
集成电路版图设计系统及方法 [P]. 
张权 ;
李斯雅 ;
施采汶 .
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[5]
集成电路版图的设计方法 [P]. 
曹云 .
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[6]
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[7]
集成电路版图布局方法及集成电路版图布局系统 [P]. 
张玉杰 ;
姚聪 ;
蒙奕帆 .
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[8]
一种集成电路后端设计优化方法和系统 [P]. 
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[9]
一种集成电路后端设计优化方法和系统 [P]. 
姚欣 ;
李勇 .
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[10]
一种集成电路版图设计教学辅助系统 [P]. 
柏娜 ;
屈睿峥 ;
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