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半导体封装及其形成方法
被引:0
申请号
:
CN202111341829.4
申请日
:
2021-11-12
公开(公告)号
:
CN114497025A
公开(公告)日
:
2022-05-13
发明(设计)人
:
蔡宜霖
刘乃玮
许文松
申请人
:
申请人地址
:
中国台湾新竹科学园区新竹市笃行一路1号
IPC主分类号
:
H01L2518
IPC分类号
:
H01L2156
H01L21768
H01L2331
H01L2348
H01L23488
H01L2160
代理机构
:
深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280
代理人
:
何倚雯
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2022-05-31
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 25/18 申请日:20211112
2022-05-13
公开
公开
共 50 条
[1]
半导体封装结构及其形成方法
[P].
许健
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0
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许健
;
艾迪·凯佑·维嘉雅
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艾迪·凯佑·维嘉雅
;
普佳·瑞凡卓·戴许曼
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普佳·瑞凡卓·戴许曼
;
莫尼卡·巴提
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莫尼卡·巴提
.
中国专利
:CN110828320B
,2020-02-21
[2]
半导体封装及其形成方法
[P].
张家纶
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张家纶
;
谢静华
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谢静华
;
蔡仲豪
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蔡仲豪
;
刘重希
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刘重希
;
王垂堂
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王垂堂
;
林修任
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林修任
.
中国专利
:CN113053835A
,2021-06-29
[3]
半导体封装及其形成方法
[P].
郭宏瑞
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郭宏瑞
;
蔡惠榕
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蔡惠榕
;
汪嘉伟
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汪嘉伟
;
张育慈
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张育慈
.
中国专利
:CN114823359A
,2022-07-29
[4]
半导体封装件及其形成方法
[P].
余振华
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余振华
;
叶德强
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叶德强
;
普翰屏
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普翰屏
.
中国专利
:CN108630676A
,2018-10-09
[5]
半导体封装结构及其形成方法
[P].
刘士玮
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
刘士玮
;
江幸达
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
江幸达
;
吴存晏
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
吴存晏
;
言玮
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
言玮
.
中国专利
:CN119965166A
,2025-05-09
[6]
半导体封装结构及其形成方法
[P].
周智超
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
周智超
;
庄正吉
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
庄正吉
;
邱奕勋
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台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
邱奕勋
;
张尚文
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
张尚文
;
蔡庆威
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
蔡庆威
.
中国专利
:CN120376508A
,2025-07-25
[7]
半导体封装结构及其形成方法
[P].
陈建宏
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
陈建宏
.
中国专利
:CN119110597A
,2024-12-10
[8]
半导体封装件及其形成方法
[P].
蔡仲豪
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蔡仲豪
;
林佳加
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林佳加
;
吴凯强
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吴凯强
;
王垂堂
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王垂堂
;
余振华
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余振华
.
中国专利
:CN110299351B
,2019-10-01
[9]
半导体封装件及其形成方法
[P].
陈洁
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陈洁
;
陈英儒
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陈英儒
;
陈宪伟
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陈宪伟
.
中国专利
:CN109786266B
,2019-05-21
[10]
半导体封装件及其形成方法
[P].
余振华
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余振华
;
刘重希
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刘重希
;
林志伟
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林志伟
;
郑明达
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郑明达
.
中国专利
:CN105679741A
,2016-06-15
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