全反射投影光学系统

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200810033054.2

申请日：

2008-01-24

公开(公告)号：

CN101221280B

公开(公告)日：

2008-07-16

发明(设计)人：

朱立荣储兆祥

申请人：

申请人地址：

201203 上海市张江高科技园区张东路1525号

IPC主分类号：

G02B1706

IPC分类号：

G03F720

代理机构：

上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237

代理人：

屈蘅;李时云

法律状态：

公开

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2008-07-16	公开	公开
2017-05-17	专利权人的姓名或者名称、地址的变更	专利权人的姓名或者名称、地址的变更号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101751578130 IPC(主分类):G02B 17/06 专利号:ZL2008100330542 变更事项:专利权人变更前:上海微电子装备有限公司变更后:上海微电子装备(集团)股份有限公司变更事项:地址变更前:201203 上海市张江高科技园区张东路1525号变更后:201203 上海市张江高科技园区张东路1525号
2010-12-22	授权	授权
2008-09-10	实质审查的生效	实质审查的生效

共 50 条

[1]

一种全反射投影光学系统 [P].

朱立荣 ;

储兆祥 .

中国专利 :CN101221281A ,2008-07-16

[2]

反射投影结构及投影光学系统 [P].

江璐芸 ;

邵坤 .

中国专利 :CN113900345A ,2022-01-07

[3]

反射投影结构及投影光学系统 [P].

江璐芸 ;

邵坤 .

中国专利 :CN113900344A ,2022-01-07

[4]

投影光学系统 [P].

孟祥月 ;

陈威望 ;

宋立通 ;

励维芳 ;

贺凌波 ;

戴付建 .

中国专利 :CN121209064A ,2025-12-26

[5]

投影光学系统 [P].

杨威 ;

全丽伟 ;

李源财 ;

章丽娟 ;

姜永旭 ;

饶钦和 .

中国专利 :CN120669392A ,2025-09-19

[6]

投影光学系统 [P].

郑竹明 .

中国专利 :CN100371767C ,2005-04-20

[7]

投影光学系统 [P].

峯藤延孝 .

中国专利 :CN105824105B ,2016-08-03

[8]

投影光学系统 [P].

吴昇澈 ;

周昱宏 ;

黄威豪 .

中国专利 :CN114253054A ,2022-03-29

[9]

投影光学系统 [P].

吴昇澈 ;

周昱宏 ;

黄威豪 .

中国专利 :CN114253054B ,2025-02-07

[10]

反射型投影光学系统以及具备此反射型投影光学系统的曝光装置 [P].

高桥友刀 .

中国专利 :CN101006377A ,2007-07-25

← 1 2 3 4 5 →