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X光机曝光监控器
被引：0
专利类型：
外观设计
申请号：
CN202030505645.7
申请日：
2020-08-31
公开(公告)号：
CN306523682S
公开(公告)日：
2021-05-07
发明(设计)人：
张军
申请人：
申请人地址：
201807 上海市嘉定区城北路2258号
IPC主分类号：
2401
IPC分类号：
代理机构：
代理人：
法律状态：
授权
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2021-05-07 | 授权 | 授权 |