一种供热均匀性高的稳定高效型真空炉

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专利类型
实用新型
申请号
CN202121961073.9
申请日
2021-08-20
公开(公告)号
CN216080927U
公开(公告)日
2022-03-18
发明(设计)人
余金珂
申请人
申请人地址
643002 四川省自贡市自流井区丹桂大街411英祥大厦11层1121室
IPC主分类号
F27B504
IPC分类号
F27D702 F27D1900
代理机构
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国省代码
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共 50 条
[1]
一种高效且受热均匀的钎焊真空炉 [P]. 
刘百华 ;
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[2]
一种高效且受热均匀的钎焊真空炉 [P]. 
孙韶 .
中国专利 :CN215145455U ,2021-12-14
[3]
一种密封型高效真空炉 [P]. 
孔凡昌 .
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[4]
一种受热均匀的真空炉 [P]. 
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[5]
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[6]
一种受热均匀的真空炉 [P]. 
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[7]
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[8]
一种真空炉的均匀加热装置 [P]. 
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[9]
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[10]
一种真空炉 [P]. 
张延忠 ;
赵永先 ;
周永军 ;
邓燕 .
中国专利 :CN222059097U ,2024-11-26