涂布方法、涂布装置、光学构件及光学装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN03152513.X

申请日：

2003-08-01

公开(公告)号：

CN1310706C

公开(公告)日：

2004-03-03

发明(设计)人：

樱田和昭高田敬介

申请人：

申请人地址：

日本东京

IPC主分类号：

B05D102

IPC分类号：

B05D136 B05C500 B05C1102 G02C702 G02B300

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司

代理人：

李香兰

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2004-05-12	实质审查的生效	实质审查的生效
2007-04-18	授权	授权
2004-03-03	公开	公开
2017-09-22	专利权的终止	未缴年费专利权终止号牌文件类型代码:1605 号牌文件序号:101749559087 IPC(主分类):B05D 1/02 专利号:ZL03152513X 申请日:20030801 授权公告日:20070418 终止日期:20160801

共 50 条

[1]

涂布构件、涂布装置及涂布方法 [P].

山中昭浩 .

中国专利 :CN105828958A ,2016-08-03

[2]

光学元件、光学元件的制造方法、涂布装置及涂布方法 [P].

黑田敏裕 ;

近藤圆华 ;

吉野淳 ;

宫寺信生 .

中国专利 :CN100456063C ,2004-07-14

[3]

一种光学布及涂布装置和涂布方法 [P].

熊雄 .

中国专利 :CN107297928B ,2017-10-27

[4]

涂布装置及光学膜涂布机 [P].

孟乾龙 ;

张健成 .

中国专利 :CN220738215U ,2024-04-09

[5]

光学胶涂布装置 [P].

不公告发明人 .

中国专利 :CN108889536A ,2018-11-27

[6]

光学胶涂布装置 [P].

朱浩东 .

中国专利 :CN108906472A ,2018-11-30

[7]

涂布构件及涂布装置 [P].

山中昭浩 .

中国专利 :CN105813765B ,2016-07-27

[8]

光学胶涂布出胶装置和光学胶涂布方法 [P].

单含梅 ;

钟尚骅 ;

赖炳旭 .

中国专利 :CN112427226A ,2021-03-02

[9]

涂布装置及涂布方法 [P].

梶谷雅一 ;

近藤尚城 ;

野尻大介 ;

肥田充弘 ;

永井久也 ;

青木正美 .

中国专利 :CN101209439A ,2008-07-02

[10]

光学胶涂布装置 [P].

不公告发明人 .

中国专利 :CN108816660A ,2018-11-16

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